Hentikan pemborosan waktu: Mengapa pemanasan IR lebih unggul daripada penggunaan udara panas untuk memanaskan wafer
Jika Anda pernah bekerja di bidang pemrosesan semikonduktor, tentu Anda tahu betapa menyebalkannya harus menunggu. Penggunaan udara panas untuk memanaskan wafer sama saja dengan mencoba memanaskan seluruh rumah hanya untuk memanaskan secangkir kopi saja. Anda harus memanaskan ruangan terlebih dahulu, lalu udaranya, dan baru setelah itu wafernya. Proses ini sangat lambat. Selain itu, hal ini juga menciptakan keterlambatan yang mengganggu proses kerja Anda.
Pemanasan IR berbeda. Metode ini tidak memerlukan penggunaan udara sebagai perantara. Energi dipancarkan langsung ke wafer. Prosesnya cepat sekali.
Dengan menggunakan udara panas, Anda harus berjuang melawan inersia termal. Anda membutuhkan waktu yang lama untuk memanaskan atau mendinginkan wafer. Waktu tersebut tidak dapat dikembalikan, dan hal ini akan menghambat kecepatan proses produksi Anda. Dengan lampu IR, Anda dapat mencapai suhu yang diinginkan dalam beberapa detik saja. Hal ini memberikan kontrol yang lebih baik. Anda tidak perlu menunggu kipas angin untuk menggerakkan udara; Anda bisa langsung mulai bekerja.
Namun, Anda tidak bisa begitu saja memasukkan lampu IR ke dalam mesin tanpa memperhatikan faktor-faktor tertentu. Jarak antara sumber cahaya dan wafer sangat penting. Jika lampu diletakkan terlalu dekat, maka akan terjadi titik-titik panas yang berbahaya, atau bahkan wafer bisa rusak. Jika lampu diletakkan terlalu jauh, maka kecepatan pemanasan akan berkurang.
Kita biasanya menghitung jarak aman agar panas dapat merata ke seluruh permukaan wafer. Selain itu, karena array IR menghasilkan energi yang besar, diperlukan alat pendingin yang efektif. Jika tidak, perangkat lain akan menyerap panas tersebut, dan tentu saja kita tidak ingin perangkat tersebut menjadi terlalu panas saat disentuh.
Sejujurnya, IR bukanlah solusi ajaib untuk segala masalah. Ada kompromi yang harus diambil. Dengan oven konveksi, jika wafer sedikit menyimpang beberapa milimeter, biasanya tidak masalah. Udara akan mengisi ruang tersebut. Namun dengan IR, penempatan wafer sangat penting. Kesalahan sekecil apa pun bisa membuat wafer menjadi tidak rata.
Pada dasarnya, Anda harus mengorbankan kemudahan penggunaan udara panas demi kecepatan pemanasan yang ditawarkan oleh IR. Bagi kebanyakan orang, kompromi ini layak dilakukan.