なぜクリーンルームで熱風の代わりに赤外線を使うのか？ 半導体製造の過程では、すべては「時間」にかかっています。 もし今でも加熱や乾燥、脱気のために強制送風を使っているのであれば、オーブンの処理速度が追いつかないという問題に悩んだことがあるでしょう。だからこそ、多くの人々が赤外線加熱を採用しているのです。 これが実際の違いです。 従来のオーブンは、まず空気を加熱し、その空気が部品を温めるという仕組みです。これは非常に遅いプロセスです。また、熱が実際に部品に届くまでには、境界層を通過する必要があります。まるでエアヒーターで部屋を暖めるようなもので、空気が動くのを待つしかありません。 一方、赤外線は違います。空気のことは気にしません。電磁波を直接対象物に送り込むのです。クリーンルームでは、これは大きな利点です。繊細なウェハーに大量の熱風を当てる必要がないため、粒子の飛散も少なく、汚染のリスクも大幅に低下します。また、オーブンの内部が安定するのを待つ必要もありません。すぐに使用できます。 速度が最も優れている点です。 浸漬時間が50％から80％も短縮されます。材料が直接熱を吸収するため、目標温度にほぼ瞬時に到達します。これにより、設備を増設するために壁を壊す必要もなく、より多くの量を処理できます。 しかし、赤外線も万能ではありません。 ランプが部品を正しく認識できる場合にのみ効果的です。形状が複雑だったり、凹みがある場合は、一部の箇所が冷たくなってしまいます。光線は角を曲がれないためです。これを解決するためには、工夫が必要です。例えば、複数のランプを使ったり、回転式の装置を使って、すべての部分に熱が当たるようにする必要があります。また、赤外線は非常に強力です。熱が急速に伝わるため、センサーの調整が重要です。センサーの反応が遅ければ、意図しない高温になり、基板が損傷する可能性があります。