PECVD加热红外发射器

在制造车间里，PECVD腔体的温度并非一个可以随意设定的参数——它直接决定了工艺的成功与否。如果基座的温度出现1°C的波动，就会导致薄膜应力发生变化，进而使刻蚀速率变得不均匀。如果红外发射器无法保持稳定的温度，那就不可能达到预定的工艺标准，最终只能得到废品。 关键在于： 我们使用封装在石英外壳中的...