Sušení on IR Heating Lamp Parts

Energetická auditiza suchárny

Sun, 19 Jul 2026 16:34:26 +0800

Proč jsme přešli na zasychání pomocí infračerveného záření
Při výrobě polovodičů není tlak na udržování „ekologické“ a bezolovnaté výroby jen otázkou splnění požadavků při auditech – jde o to opravdu udělat proces čistším. Dlouho jsme spoléhali na ty obrovské konvekční trouby. Ale problém je v tom, že zahřívání velkých objemů vzduchu je plýtváním energií. Navíc veškerý ten pohybující se vzduch v podstatě slouží jako dopravní pás pro prach a částice, což je to poslední, co chcete mít v blízkosti vašich desek.

Ohřívač na sušení destiček senzorů MEMS

Thu, 16 Jul 2026 02:50:13 +0800

Proč přecházíme na infračervené zahřívání při sušení polovodičů bez olova

Při sušení destiček senzorů typu MEMS hrajete nebezpečnou hru. Musíte odstranit každou kapku vody z těchto drobných, křehkých mikrostruktur, aniž byste je náhodou poškodili nebo zkreslili.

Dlouho lidé používali konvekční pece nebo chemikálie k dokončení této práce. Ale průmysl se nyní orientuje na standardy „bez olova a ekologické“ metody – ty staré metody už prostě nebudou stačit. Právě zde přichází na řadu krátkovlnné infračervené zahřívání.

Jak to vlastně funguje
Vezměte si např. pečici s horkým vzduchem. Nejprve je potřeba ohřát vzduch, poté celou komoru, poté nosič – a teprve poté vodu. Je to pomalé a plýtvavé.

Levná žárovka na sušení destiček

Fri, 26 Jun 2026 05:25:40 +0800

V provozu výroby není odchylka v teplotě sušení žádným malým problémem. Má vážný vliv na kvalitu výsledku. Oblasti měkkého a tvrdého zpracování jsou již tak dost úzké, a pokud není termální profil na celé ploše čipu rovnoměrný, projeví se to chybami ve velikostech po expozici. Vyvinuli jsme tuto žárovku určenou k sušení čipů právě proto, abychom tento problém odstranili hned u zdroje.

Co je důležité uvnitř Používáme halogenové prvky s krátkými vlnovými délkami v křemíkových obalech – ty jsou vybrány kvůli rychlé reakci a stabilnímu spektrálnímu výstupu. Žárovka zajišťuje rovnoměrnost teploty na celé ploše čipu v rozmezí ±0,1 °C, přičemž opakovatelnost hodnot je v rozmezí ±0,5 °C. Výstup je kalibrován na frekvenci 300–400 nm, aby odpovídal absorpci fotorezistoru – díky tomu zůstává odpařování rozpouštědel konzistentní bez nadměrného nárůstu teploty. Žárovka se hodí do standardních svítidel s definovaným napětím a výkonem. Je také kompatibilní s prostory s čistotou od třídy 1 do třídy 100. Uzavřená konstrukce a materiály s nízkou emisí částic minimalizují vznik částic, čímž se zachovává jejich počet na požadované úrovni během procesu.

Velkoobchodní lampa na sušení waferů

Thu, 25 Jun 2026 05:04:51 +0800

V továrně se rychle naučíte, že wafer vyjíždějící z sušicího zařízení s teplotní odchylkou i 1,2 °C může překročit termální limity použité při litografii. S zmenšováním velikosti čipů se také zpřísňují tolerance spojené s procesem sušení fotorezistentu – to není divu. Sušicí lampa musí poskytovat konstantní teplotu, a to rychle, a zároveň nesmí přidávat žádné částice.

Co je technicky důležité
Používáme sušicí lampy s emitery krátkovlnného infračerveného záření. Ty vytvářejí rovnoměrné tepelné pole na povrchu waferu. Cílem je dosáhnout opakovatelnosti teploty na úrovni ±0,1 °C, měřeno přímo v procesní rovině. Rychlá reakce lampy zkracuje dobu procesu. Tělo lampy je navrženo pro použití v prostorách s úrovní čistoty 1–100 – bez uvolňování jakýchkoli částic. Výstupní hodnota zůstává stabilní v rozmezí 1 % po dobu více než 5 000 hodin, takže profil sušení zůstává konstantní.

Výbojka sušicí pece na vafle

Sun, 21 Jun 2026 06:37:45 +0800

V litografii není sušička polovodičových destiček určena pouze k odstranění vlhkosti. Je to právě ona, která určuje teplotní podmínky pro každé následující zpracování fotorezistu. Nárůst teploty o 2 °C na povrchu destičky může způsobit posun v šířce pruhů, což se na žádném měřicím grafu neobjeví, dokud nezačnou chybět jednotlivé buňky v měřeních. My jsme navrhli topné prvky našich sušiček tak, aby tomu zabránily.

Jádrem tohoto systému je kvartzo-halogenní infračervený topný prvek spolu s mikrozónovaným reflexním polem. Díky tomu zůstává rovnost teploty na celé ploše destičky v rozmezí ±0,1 °C, přičemž opakovatelnost nastavené teploty je ±0,2 °C. Tento topný prvek funguje i v čistých prostředích třídy 1–100 bez uvolňování částic – nízká míra uvolňování plynů a hermeticky uzavřené konektory zabraňují kontaminaci. Teplotní změny jsou rychlé a kontrolovatelné, takže lze dosáhnout přesného teplotního profilu potřebného k zpracování fotorezistu, bez nadměrného nárůstu teploty.