http://ir-heat-parts.com/cs/tags/wafle/ Recent content in Wafle on IR Heating Lamp Parts Hugo cs Sat, 04 Jul 2026 11:42:37 +0800 http://ir-heat-parts.com/cs/posts/wafer-processing-spare-parts-online/ Sat, 04 Jul 2026 11:42:37 +0800 http://ir-heat-parts.com/cs/posts/wafer-processing-spare-parts-online/ <p><img src="http://ir-heat-parts.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="Náhradní díly pro zpracování waferů online"></p> <h2 id="úvod">Úvod</h2> <p>Vyrábíme halogenové topné lampy, ale ne takové, jaké najdete v běžných dílnách. Tyto lampy jsou navrženy speciálně pro linky na zpracování polovodičových desek. Jedná se o náhradní díly určené přímo do těchto zařízení – jsou vhodné pro špičkové výrobní linky, které potřebují intenzivní a stabilní teplo, aniž by zabíraly moc prostoru.</p> <h2 id="pojďme-mluvit-o-výkonu-napětí-a-kompatibilitě">Pojďme mluvit o výkonu, napětí a kompatibilitě</h2> <p>Při zpracování polovodičových desek jsou tyto lampy obvykle konfigurovány tak, aby vyvinuly 2500 W při napětí 400 V. Výběr tohoto napětí je důležitý – znamená to, že zdroj napájení pracuje s nižším proudem při stejném výkonu, což snižuje ztráty v kabelech a udržuje řídicí skříň chladnou. Výsledkem je stabilní výstupní výkon, dokonce i při dlouhodobém provozu.</p> http://ir-heat-parts.com/cs/posts/cheap-wafer-drying-lamp-bulb/ Fri, 26 Jun 2026 05:25:40 +0800 http://ir-heat-parts.com/cs/posts/cheap-wafer-drying-lamp-bulb/ <p><img src="http://ir-heat-parts.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png" alt="Levná žárovka na sušení destiček"></p> <p>V provozu výroby není odchylka v teplotě sušení žádným malým problémem. Má vážný vliv na kvalitu výsledku. Oblasti měkkého a tvrdého zpracování jsou již tak dost úzké, a pokud není termální profil na celé ploše čipu rovnoměrný, projeví se to chybami ve velikostech po expozici. Vyvinuli jsme tuto žárovku určenou k sušení čipů právě proto, abychom tento problém odstranili hned u zdroje.</p> <p><strong>Co je důležité uvnitř</strong> Používáme halogenové prvky s krátkými vlnovými délkami v křemíkových obalech – ty jsou vybrány kvůli rychlé reakci a stabilnímu spektrálnímu výstupu. Žárovka zajišťuje rovnoměrnost teploty na celé ploše čipu v rozmezí ±0,1 °C, přičemž opakovatelnost hodnot je v rozmezí ±0,5 °C. Výstup je kalibrován na frekvenci 300–400 nm, aby odpovídal absorpci fotorezistoru – díky tomu zůstává odpařování rozpouštědel konzistentní bez nadměrného nárůstu teploty. Žárovka se hodí do standardních sví<a href="https://o-yate.net">tidel</a> s definovaným napětím a výkonem. Je také kompatibilní s prostory s čistotou od třídy 1 do třídy 100. Uzavřená konstrukce a materiály s nízkou emisí částic minimalizují vznik částic, čímž se zachovává jejich počet na požadované úrovni během procesu.</p> http://ir-heat-parts.com/cs/posts/wholesale-wafer-drying-lamp/ Thu, 25 Jun 2026 05:04:51 +0800 http://ir-heat-parts.com/cs/posts/wholesale-wafer-drying-lamp/ <p><img src="http://ir-heat-parts.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png" alt="Velkoobchodní lampa na sušení waferů"></p> <p>V továrně se rychle naučíte, že wafer vyjíždějící z sušicího zařízení s teplotní <a href="https://henruite.com">odchylkou</a> i 1,2 °C může překročit termální limity použité při litografii. S zmenšováním velikosti čipů se také zpřísňují tolerance spojené s procesem sušení fotorezistentu – to není divu. Sušicí lampa musí poskytovat konstantní teplotu, a to rychle, a zároveň nesmí přidávat žádné částice.</p> <p><strong>Co je technicky důležité</strong><br> Používáme sušicí lampy s emitery krátkovlnného infračerveného záření. Ty vytvářejí rovnoměrné tepelné pole na povrchu waferu. Cílem je dosáhnout opakovatelnosti teploty na úrovni ±0,1 °C, měřeno přímo v procesní rovině. Rychlá reakce lampy zkracuje dobu procesu. Tělo lampy je navrženo pro použití v prostorách s úrovní čistoty 1–100 – bez uvolňování jakýchkoli částic. Výstupní hodnota zůstává stabilní v rozmezí 1 % po dobu více než 5 000 hodin, takže profil sušení zůstává konstantní.</p>