Großhandelslampe zum Trocknen von Wafern

Thu, 25 Jun 2026 05:04:51 +0800

In der Produktion lernt man schnell, dass eine Wafer, die aus dem Spinndryer kommt und dabei eine Temperaturunterschiede von bis zu 1,2 °C aufweist, außerhalb der zulässigen Temperaturgrenzen für die Lithographieprozesse liegen kann. Wenn die Prozessschritte immer kleiner werden, werden auch die Toleranzen für das Trocknen des Photoresists immer enger – das ist keine Überraschung. Die Trockenlampe muss eine konstante Wärmeabgabe liefern, und zwar schnell – ohne dabei Partikel freizusetzen.

Was technisch wichtig ist:
Wir verwenden Trockenlampen mit kurzwelligen Infrarotstrahlern. Diese erzeugen ein gleichmäßiges Wärmefeld über die gesamte Fläche der Wafer. Das Ziel ist eine Temperaturreproduzierbarkeit von ±0,1 °C direkt an der Arbeitsfläche. Eine schnelle Temperaturanspassung verkürzt die Prozesszeit. Zudem ist die Lampe für den Einsatz in Reinräumen der Klasse 1–100 geeignet – ohne Partikelfreisetzung. Die Leistung bleibt über 5.000 Stunden hinweg innerhalb von 1 % konstant, sodass das Trocknungsprofil stabil bleibt.

Großhandel on IR Heating Lamp Parts

Großhandelslampe zum Trocknen von Wafern