Heizelement des Wafer Trocknungsöfens

Sun, 21 Jun 2026 06:37:45 +0800

In der Lithografie dient das Wafer-Trocknungsöfen nicht nur dazu, Feuchtigkeit zu entfernen. Er bestimmt vielmehr den thermischen Rahmen für alle anschließenden Verarbeitungsschritte mit dem Fotolack. Eine Temperaturdifferenz von 2°C auf der Oberfläche des Wafer kann zu Abweichungen in der Breite der Linien führen – solche Abweichungen werden erst dann sichtbar, wenn es zu Fehlern bei der Messung kommt. Wir haben den Heizelemente unseres Wafer-Trocknungsöfens so konstruiert, dass dies verhindert wird.

Das Herzstück des Systems ist ein Quarz-Halogen-Infrarot-Heizelement, das zusammen mit einem Mikrozonenreflektorarray verwendet wird. Dadurch bleibt die Homogenität der Temperatur auf dem Wafer bei ±0,1°C innerhalb der gesamten Charge – die Genauigkeit der Einstellung beträgt ±0,2°C. Das Heizelement funktioniert auch in Reinräumen der Klasse 1–100 ohne das Eindringen von Partikeln. Dank niedrigem Ausgasungsniveau sowie einer versiegelten Anschlussleitung wird eine Kontamination vermieden. Die Temperaturanpassungen sind schnell und steuerbar – dadurch kann genau das gewünschte thermische Profil erreicht werden, ohne Überschreitungen.

Heizen on IR Heating Lamp Parts

Heizelement des Wafer Trocknungsöfens