Ofen on IR Heating Lamp Parts

Oberflächenheizer für Reinraumöfen

Thu, 23 Jul 2026 12:09:15 +0800

Warum wir in Reinräumen auf Infrarotheizung statt auf heiße Luft setzen
Bei der Halbleiterverarbeitung kommt es letztendlich nur auf eine Sache an: Zeit.
Wenn man weiterhin auf geheizte Luft zur Trocknung oder Entgasung angewiesen ist, kennt man sicherlich das Frustgefühl, wenn der Ofen einfach nicht mit dem Arbeitsaufkommen Schritt halten kann. Deshalb wechseln viele von uns dazu auf Infrarotheizung.
Das ist der wirkliche Vorteil gegenüber herkömmlichen Öfen. Herkömmliche Öfen erhitzen zunächst die Luft – in der Hoffnung, dass diese Luft anschließend das zu behandelnde Teil erwärmt. Das ist ein langsamer Prozess. Es entsteht außerdem eine Art „thermische Verzögerung“, bei der die Wärme erst durch eine Schicht aus Luft dringen muss, bevor sie das Werkstück erreicht. Es ist, als würde man einen Raum mit einem Heizlüfter erwärmen – man muss ewig warten, bis sich die Luft bewegt.
Infrarotheizung funktioniert anders. Sie kümmert sich nicht um die Luft. Stattdessen sendet sie elektromagnetische Strahlung direkt auf das Zielobjekt. In einem Reinraum ist das ein riesiger Vorteil: Man muss keine starken Strömungen von heißer Luft auf empfindliche Wafern verwenden. Dadurch werden viel weniger Partikel freigesetzt, und das Kontaminationsrisiko sinkt drastisch. Zudem muss man nicht warten, bis sich der Ofenraum „stabilisiert“ hat. Man schaltet ihn einfach ein und kann sofort weiterarbeiten.
Die Geschwindigkeit ist wirklich der größte Vorteil. Wir haben gesehen, dass die Behandlungszeiten um 50 % bis 80 % reduziert werden können. Da das Material die Wärme direkt aufnimmt, wird die gewünschte Temperatur fast sofort erreicht. Dadurch kann man viel mehr Material bearbeiten, ohne dafür Wände entfernen zu müssen.
Aber Achtung: Infrarotheizung ist keine Allheilmethode. Sie funktioniert nur dann, wenn die Lampe das Teil gut sehen kann. Bei komplizierten Formen oder tiefliegenden Bereichen entstehen Probleme – die Strahlen können nämlich keine Ecken umgehen. Dadurch bleiben einige Stellen kalt, während andere überhitzt werden.
Um das zu lösen, muss man kreativ sein – vielleicht mit einer Mehrfachanordnung der Lampen oder einer drehbaren Halterung, damit jeden Bereich gleichmäßig erhitzt wird. Und noch ein Hinweis: Infrarotstrahlung ist intensiv. Da die Wärme so schnell einwirkt, müssen die Sensoren perfekt eingestellt sein. Wenn sie zu langsam reagieren, kann es passieren, dass die Temperatur zu hoch wird und das Substrat beschädigt wird, bevor man überhaupt merkt, was passiert ist.

SK15 Infrarotlampe für Waferofen

Sun, 28 Jun 2026 06:03:02 +0800

In der Fertigungsstätte sind thermische Schwankungen während des Trocknens der Wafer oder während des Erhitzens des Photoresists nicht nur ineffizient – sie führen auch zu Fehlern in der Produktion. Ein Temperaturunterschied von 3 °C auf der Oberfläche des Wafers kann dazu führen, dass die entscheidenden Abmessungen verändert werden. Eine langsame Erhitzung kann dazu führen, dass Lösungsmittel zurückbleiben und somit Defekte entstehen. Die SK15-Infrarotlampe für Waferöfen wurde entwickelt, um solche Probleme durch präzise Steuerung der Temperatur zu vermeiden.

Heizelement des Wafer Trocknungsöfens

Sun, 21 Jun 2026 06:37:45 +0800

In der Lithografie dient das Wafer-Trocknungsöfen nicht nur dazu, Feuchtigkeit zu entfernen. Er bestimmt vielmehr den thermischen Rahmen für alle anschließenden Verarbeitungsschritte mit dem Fotolack. Eine Temperaturdifferenz von 2°C auf der Oberfläche des Wafer kann zu Abweichungen in der Breite der Linien führen – solche Abweichungen werden erst dann sichtbar, wenn es zu Fehlern bei der Messung kommt. Wir haben den Heizelemente unseres Wafer-Trocknungsöfens so konstruiert, dass dies verhindert wird.

Das Herzstück des Systems ist ein Quarz-Halogen-Infrarot-Heizelement, das zusammen mit einem Mikrozonenreflektorarray verwendet wird. Dadurch bleibt die Homogenität der Temperatur auf dem Wafer bei ±0,1°C innerhalb der gesamten Charge – die Genauigkeit der Einstellung beträgt ±0,2°C. Das Heizelement funktioniert auch in Reinräumen der Klasse 1–100 ohne das Eindringen von Partikeln. Dank niedrigem Ausgasungsniveau sowie einer versiegelten Anschlussleitung wird eine Kontamination vermieden. Die Temperaturanpassungen sind schnell und steuerbar – dadurch kann genau das gewünschte thermische Profil erreicht werden, ohne Überschreitungen.