PECVD Heizung – Infrarotstrahler

Wed, 24 Jun 2026 04:24:45 +0800

In der Fertigungshalle ist die Temperatur in der PECVD-Kammer keine bloß „Hintergrund-Einstellung“ – sie ist vielmehr entscheidend für den Ablauf des Prozesses. Eine Abweichung von 1°C am Substrat führt sofort zu Veränderungen in der Spannung des Films sowie zu Uneinheitlichkeiten in der Ätgeschwindigkeit. Wenn der Infrarotemitter seine Funktion nicht erfüllt, kann man nicht mehr an den vorgegebenen Spezifikationen arbeiten – man hat stattdessen nur noch Probleme mit den Produkten.

Was wirklich wichtig ist
Wir verwenden kurzwellige NIR-Halogenelemente in einer Quarzkapsel. Dadurch wird eine präzise Temperaturregelung möglich. Das bedeutet eine Homogenität auf Waferniveau von ±0,1°C innerhalb der aktiven Zone sowie eine hohe Wiederholgenauigkeit, sodass das thermische Gleichgewicht von Charge zu Charge konstant bleibt. Die Anordnung der Komponenten eignet sich für Reinraumbedingungen (Klasse 1–100) – ohne dass während des Betriebs Partikel entstehen. Es gibt weder Ausgasungen noch Abschälungen. Lediglich konstanter Strahlungshitze.

PECVD on IR Heating Lamp Parts

PECVD Heizung – Infrarotstrahler