http://ir-heat-parts.com/de/tags/python/ Recent content in ```Python on IR Heating Lamp Parts Hugo de Tue, 21 Jul 2026 04:05:00 +0800 http://ir-heat-parts.com/de/posts/temperature-sensor-for-wafer-tool/ Tue, 21 Jul 2026 04:05:00 +0800 http://ir-heat-parts.com/de/posts/temperature-sensor-for-wafer-tool/ <p><img src="http://ir-heat-parts.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png" alt="Temperatursensor für Waferwerkzeug"></p> <h1 id="hören-sie-auf-ihre-werkzeuge-zu-erhitzen--heizen-sie-stattdessen-die-wafer">Hören Sie auf, Ihre Werkzeuge zu erhitzen – heizen Sie stattdessen die Wafer.</h1> <p>Standard-Infrarotlampen sind im Grunde genommen einfach Glü<a href="https://goldisgood.com">hbirnen</a> – sie strahlen Wärme in alle Richtungen ab. Bei Werkzeugen zur Bearbeitung von Wafern ist das ein Albtraum.<br> Wenn man die Heizleistung erhöht, gelangt ein großer Teil der Energie gar nicht auf die Waferoberfläche. Stattdessen prallt sie direkt gegen die Innenwände der Maschine. Dadurch entstehen „heiße Wände“, die die <a href="https://o-yate.net">inneren</a> Komponenten der Maschine beschädigen können – oder schlimmer noch: Der Bediener kann bei routinemäßigen Wartungsarbeiten Verbrennungen erleiden.</p> http://ir-heat-parts.com/de/posts/semiconductor-inspection-tool-heater/ Tue, 30 Jun 2026 05:28:44 +0800 http://ir-heat-parts.com/de/posts/semiconductor-inspection-tool-heater/ <p><img src="http://ir-heat-parts.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png" alt="Heizgerät für Halbleiter Inspektionstool"></p> <p>Bei der Inspektion wird die Stabilität des Heizsystems in Grad gemessen – nicht in Minuten. Schon wenige Zehntelgrad an Drift während des Trocknungsprozesses reichen aus, um kritische Abmessungen zu beeinflussen. Auch Partikel können dazu führen, dass die Ergebnisse ungenau werden. Wir haben daher einen Heizer entwickelt, der diese Unregelmäßigkeiten ausgleicht.</p> <p><strong>Was wir getan haben</strong><br> Wir haben kurzwellige Infrarotkomponenten sowie ein thermisches Design mit Quarzkern verwendet. Die Erwärmung erfolgt schnell, und die Gleichmäßigkeit auf Wafer-Ebene liegt bei ±0,1°C. Die Einstellungen bleiben auch während des Trocknungsprozesses konstant – dadurch bleiben die Bedingungen für die Belichtung und Entwicklung konstant.</p>