<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>SK15 on IR Heating Lamp Parts</title>
		<link>http://ir-heat-parts.com/fr/tags/sk15/</link>
		<description>Recent content in SK15 on IR Heating Lamp Parts</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>fr</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 28 Jun 2026 06:03:02 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-parts.com/fr/tags/sk15/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampe infrarouge SK15 pour four à wafers</title>
				<link>http://ir-heat-parts.com/fr/posts/sk15-infrared-lamp-for-wafer-oven/</link>
				<pubDate>Sun, 28 Jun 2026 06:03:02 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-parts.com/fr/posts/sk15-infrared-lamp-for-wafer-oven/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-parts.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Lampe infrarouge SK15 pour four à wafers&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sur le chantier de fabrication, les variations thermiques lors du séchage des wafers ou de la cuisson du photo-résiste ne sont pas seulement des sources d’inefficacité : elles entraînent également des défauts dans les produits finis. Une différence de température de 3 °C sur le wafer peut &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;perturber&lt;/a&gt; les dimensions critiques de celui-ci. Une montée en température lente peut permettre au solvant de se déposer, ce qui provoque des défauts. La lampe infrarouge SK15, conçue pour être utilisée dans les fours à wafers, permet de contrer ces problèmes grâce à une distribution homogène de la chaleur, calculée avec précision.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
