ओवन on IR Heating Lamp Parts

क्लीन रूम ओवन – इन्फ्रारेड हीटर

Thu, 23 Jul 2026 12:09:15 +0800

क्यों हम क्लीन रूम में हॉट एयर के बजाय इन्फ्रारेड तकनीक का उपयोग कर रहे हैं?

जब आप सेमीकंडक्टर प्रसंस्करण के काम में लगे होते हैं, तो सब कुछ “समय” पर ही निर्भर होता है।
यदि आप अभी भी सुखाने/वाष्पीकरण हेतु फोर्स्ड एयर का उपयोग कर रहे हैं, तो आपने शायद ऐसी स्थितियों का सामना किया होगा, जब ओवन उत्पादों को ठीक से सुखाने में असमर्थ रहता है। इसी कारण हम में से कई लोग इन्फ्रारेड तकनीक का उपयोग कर रहे हैं।
पारंपरिक ओवनों में हवा को गर्म किया जाता है, और फिर उस हवा के द्वारा ही उत्पादों को गर्म किया जाता है। यह एक धीमी प्रक्रिया है। इसमें “थर्मल लैग” नामक समस्या भी है – गर्मी को उत्पाद तक पहुँचने में काफी समय लगता है। यह तो ऐसा ही है, जैसे कि किसी कमरे को हीटर से गर्म करने की कोशिश कर रहे हों… आपको हमेशा ही हवा के गर्म होने का इंतज़ार करना पड़ता है।
इन्फ्रारेड तकनीक में ऐसी कोई समस्या नहीं है। यह तो सीधे ही वस्तुओं पर विद्युतचुम्बकीय विकिरण भेजती है। क्लीन रूम में यह बहुत ही लाभदायक है… क्योंकि ऐसे में उत्पादों पर अत्यधिक गर्म हवा नहीं पड़ती, जिससे संदूषण का खतरा भी कम हो जाता है। इसके अलावा, ओवन के “स्थिर होने” का इंतज़ार भी नहीं करना पड़ता… बस इसे चालू कर देना ही पर्याप्त है।
वास्तव में, गति ही सबसे बड़ा फायदा है… प्रसंस्करण समय 50% से 80% तक कम हो जाता है। क्योंकि सामग्री सीधे ही गर्मी को अवशोषित कर लेती है… इससे लक्षित तापमान तुरंत ही प्राप्त हो जाता है। इससे अधिक मात्रा में उत्पादों को प्रसंस्कृत किया जा सकता है… बिना अतिरिक्त उपकरणों की आवश्यकता के।
लेकिन ध्यान रखें… इन्फ्रारेड तकनीक हर समस्या का समाधान नहीं है। यह तभी काम करती है, जब लैंप उत्पादों को ठीक से देख पाए… यदि उत्पादों की आकृति जटिल है, तो कुछ हिस्से ठंडे ही रह जाते हैं… ऐसी स्थितियों में रचनात्मकता की आवश्यकता होती है… जैसे कि मल्टी-बैंक एरे या रोटेटिंग फिक्सचर का उपयोग करके हर हिस्से को गर्म किया जा सकता है।
एक चेतावनी भी है… इन्फ्रारेड तकनीक बहुत ही शक्तिशाली है… इसलिए सेंसरों को ठीक से सेट करना आवश्यक है… यदि सेंसर धीरे काम करते हैं, तो तापमान अत्यधिक हो सकता है… जिससे उत्पाद नष्ट हो सकता है।

वेफर ओवन के लिए SK15 इन्फ्रारेड लैंप

Sun, 28 Jun 2026 06:03:02 +0800

वेफर सूखाने या फोटोरेजिस्ट को सुखाने की प्रक्रिया में होने वाले तापीय उतार-चढ़ाव, केवल अकुशलता का कारण ही नहीं हैं; बल्कि ये उत्पादन क्षमता को भी कम कर देते हैं। वेफर पर 3°C का तापमान-अंतर, उसके महत्वपूर्ण आयामों को प्रभावित कर सकता है। धीमी गति से तापमान बढ़ने से घुलनशील पदार्थ वेफर में ही रह जाते हैं, जिससे दोष उत्पन्न होते हैं। SK15 इंफ्रारेड लैंप, ऐसी समस्याओं को दूर करने हेतु डिज़ाइन किया गया है; इसके द्वारा तापमान नियंत्रित किया जा सकता है।

वेफर सुखाने वाली ओवन का हीटिंग एलिमेंट

Sun, 21 Jun 2026 06:37:45 +0800

लिथोग्राफी में, वेफर सुखाने हेतु उपयोग में आने वाले ओवन का कार्य केवल नमी हटाना ही नहीं है; बल्कि यह आगे होने वाली प्रत्येक फोटोरेजिस्ट प्रक्रिया के लिए आवश्यक तापमान स्तर निर्धारित करने में भी महत्वपूर्ण भूमिका निभाता है। चक में 2°C का तापमान-अंतर, वेफर की रूपरेखा में परिवर्तन पैदा कर सकता है; ऐसा परिवर्तन किसी भी मेट्रोलॉजी चार्ट में दिखाई नहीं देता, जब तक कि वेफर में दोष न उत्पन्न हो जाएं। हमने ऐसी स्थिति से बचने हेतु वेफर सुखाने वाले ओवन में विशेष हीटिंग तत्व लगाए हैं।
इस हीटिंग तत्व में क्वार्ट्ज-हैलोजन शॉर्ट-वेव इन्फ्रारेड तत्व है, जिसके साथ माइक्रो-ज़ोन्ड रिफ्लेक्टर एरे भी है। यह हीटिंग तत्व, पूरे बैच में वेफर के तापमान को ±0.1°C के भीतर बनाए रखता है; जबकि सेटपॉइंट की पुनरावृत्ति ±0.2°C है। यह हीटिंग तत्व क्लास 1–100 के क्लीनरूम वातावरण में भी काम कर सकता है; क्योंकि इसमें कोई कण नहीं उत्पन्न होते। कम गैस उत्सर्जन वाली सामग्रियों एवं सील्ड डिज़ाइन के कारण संदूषण भी नहीं होता। तापमान में तेज़ एवं नियंत्रित परिवर्तन होते हैं; इसलिए फोटोरेजिस्ट प्रक्रिया हेतु आवश्यक तापमान स्तर हासिल करना आसान हो जाता है।
वास्तव में, इससे वेफरों के आकार में स्थिरता बनी रहती है, एवं पुनर्कार्य की आवश्यकता भी कम हो जाती है। यह हीटिंग तत्व 24/7 काम करता रहता है, एवं इसका रखरखाव भी आसान है। इसके कारण प्रत्येक चक्र में ऊर्जा की बचत होती है। विभिन्न ओवनों में भी लगातार समान परिणाम प्राप्त होते हैं।
इसकी स्थापना आसान है; लेकिन तापीय संबंधों को एक प्रक्रिया-चर के रूप में ही देखना आवश्यक है। ओवन की हवा-प्रवाह प्रणाली एवं हीटिंग तत्व की स्थापना, वेफरों के तापमान में समानता बनाए रखने में महत्वपूर्ण भूमिका निभाती है; इसलिए ओवन की कैलिब्रेशन जरूर करें। हीटिंग तत्व को तापीय प्रणाली का ही हिस्सा मानें, न कि अलग घटक के रूप में… ऐसा करने से ओवन हर बार निर्धारित मानकों के अनुसार ही काम करेगा।