http://ir-heat-parts.com/hi/tags/%E0%A4%B8%E0%A5%8D%E0%A4%AA%E0%A4%9F%E0%A4%B0%E0%A4%BF%E0%A4%82%E0%A4%97/ Recent content in स्पटरिंग on IR Heating Lamp Parts Hugo hi Tue, 23 Jun 2026 00:35:49 +0800 http://ir-heat-parts.com/hi/posts/semiconductor-sputtering-heater/ Tue, 23 Jun 2026 00:35:49 +0800 http://ir-heat-parts.com/hi/posts/semiconductor-sputtering-heater/ <p><img src="http://ir-heat-parts.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="अर्धचालक स्पटरिंग हीटर"></p> <p>फैब्रिकेशन प्रक्रिया में, लक्षित तापमान कोई सुझाव नहीं है – बल्कि यही प्रक्रिया का ही हिस्सा है। प्री-हीटिंग के दौरान 0.5°C का अंतर भी फिल्म निर्माण की दर को प्रभावित कर सकता है; स्पटरिंग चैंबर में ठंड शुरू होने में होने वाली देरी भी उत्पादन समय को कम कर देती है। हमने ऐसे सेमीकंडक्टर स्पटरिंग हीटर बनाए हैं, ताकि तापीय व्यवहार हमेशा स्थिर रहे।</p> <p><strong>तकनीकी दृष्टि से क्या महत्वपूर्ण है?</strong><br> इन हीटरों में कम ऊष्मा-द्रव्यमान वाले घटकों का उपयोग किया गया है, जिससे तापमान तेज़ी से एवं स्थिर रूप से बढ़ता है। वेफर पर तापमान की समानता ±0.1°C के भीतर ही रहती है; इससे फिल्म की मोटाई भी सही रहती है। ये हीटर क्लीनरूम वातावरण के लिए ही डिज़ाइन किए गए हैं – इनमें ऐसी सामग्रियों एवं सतह-संसाधनों का उपयोग किया गया है, जिससे कणों का उत्पादन न्यूनतम रहता है। 10,000 चक्रों के बाद भी तापमान में ±0.2°C का ही अंतर रहता है; इसलिए इन हीटरों का उपयोग उत्पादन प्रक्रिया में आसानी से किया जा सकता है।</p>