http://ir-heat-parts.com/id/tags/berikut-adalah/ Recent content in Berikut Adalah on IR Heating Lamp Parts Hugo id Tue, 21 Jul 2026 04:05:00 +0800 http://ir-heat-parts.com/id/posts/temperature-sensor-for-wafer-tool/ Tue, 21 Jul 2026 04:05:00 +0800 http://ir-heat-parts.com/id/posts/temperature-sensor-for-wafer-tool/ <p><img src="http://ir-heat-parts.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png" alt="Sensor suhu untuk alat pengolahan wafer"></p> <p><strong>Berhentilah memanaskan alat tersebut, dan mulailah memanaskan wafernya saja.</strong><br> Lampu inframerah <a href="https://goldisgood.com">biasa</a> pada dasarnya merupakan bohlam biasa—lampu ini memancarkan panas ke segala arah. Dalam alat pemrosesan <a href="https://henruite.com">wafer</a>, hal ini merupakan masalah yang serius.</p> <p>Ketika suhu dipertinggi, sebagian besar energi panas tersebut tidak sampai ke wafer. Energi tersebut justru mengenai dinding bagian dalam alat tersebut. Akibatnya, dinding-dinding tersebut menjadi sangat panas, sehingga bisa merusak komponen-komponen di dalam alat tersebut. Lebih buruk lagi, hal ini dapat <a href="https://o-yate.com">menyebabkan</a> cedera pada operator saat melakukan perawatan rutin.</p> http://ir-heat-parts.com/id/posts/semiconductor-inspection-tool-heater/ Tue, 30 Jun 2026 05:28:44 +0800 http://ir-heat-parts.com/id/posts/semiconductor-inspection-tool-heater/ <p><img src="http://ir-heat-parts.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png" alt="Alat pemanas untuk inspeksi semikonduktor"></p> <p>Dalam proses inspeksi, stabilitas suhu <a href="https://o-yate.com">diukur</a> dalam satuan derajat, bukan menit. Sedikit sekali penyimpangan suhu selama proses pemanasan fotoresist sudah cukup untuk mengganggu dimensi-dimensi kritis komponen tersebut. Partikel-partikel kecil pun dapat merusak kualitas komponen tersebut. Kami merancang alat pemanas ini agar dapat menghilangkan variabilitas suhu tersebut.</p> <p><strong>Apa yang telah kami lakukan</strong> Kami menggunakan elemen inframerah berpanjang gelombang pendek, serta desain termal yang menggunakan bahan kuarsa sebagai bahan penyangga. Proses pemanasan berlangsung dengan cepat, dan tingkat keseragaman suhu pada permukaan wafer mencapai ±0,1°C. Nilai setpoint tetap konstan selama proses pemanasan, sehingga kondisi eksposur dan proses pengolahan tetap stabil.</p>