Oven on IR Heating Lamp Parts

Pemanas inframerah untuk oven di ruang bersih

Thu, 23 Jul 2026 12:09:15 +0800

Mengapa Kita Mengganti Udara Panas dengan Sinar Infra Merah di Ruang Bersih
Dalam proses pengolahan semikonduktor, yang paling penting adalah waktu. Jika Anda masih mengandalkan udara panas untuk proses pemanasan, pengeringan, atau eliminasi gas berbahaya, Anda pasti pernah merasa frustrasi karena oven tersebut tidak mampu memenuhi kebutuhan proses tersebut. Itulah sebabnya banyak orang beralih ke metode pemanasan menggunakan sinar infra merah (IR).

Perbedaan antara metode konvensional dan IR sangat jelas. Oven konvensional bekerja dengan memanaskan udara, lalu berharap udara tersebut dapat memanaskan bahan yang akan diproses. Proses ini sangat lambat. Ada “keterlambatan termal” yang menyebabkan panas harus melewati lapisan udara sebelum bisa mencapai bahan yang diproses. Ini seperti mencoba memanaskan ruangan menggunakan pemanas ruangan—Anda harus menunggu cukup lama agar udara menjadi hangat.

Lampu inframerah SK15 untuk oven wafer

Sun, 28 Jun 2026 06:03:02 +0800

Di lantai produksi, fluktuasi suhu selama proses pengeringan wafer atau pemanasan fotoresist bukan hanya merupakan hal yang tidak efisien, tetapi juga dapat merusak kualitas produk. Fluktuasi suhu sebesar 3°C pada permukaan wafer dapat mengacaukan dimensi-dimensi pentingnya. Proses pemanasan yang lambat dapat menyebabkan penumpukan pelarut dan timbulnya defek. Lampu inframerah SK15 dirancang untuk mengatasi masalah-masalah ini, dengan penyediaan panas yang terkontrol secara tepat.

Yang penting dalam proses ini adalah kontrol suhu. SK15 menggunakan elemen inframerah berpanjang gelombang pendek yang bereaksi dalam waktu sub-detik, sehingga memungkinkan pengendalian suhu yang lebih baik. Pada wafer berukuran 300 mm, SK15 mampu menjaga konsistensi suhu hingga ±0,1°C. Spektrum cahaya yang dihasilkan cocok dengan karakteristik penyerapan fotoresist, sehingga mengurangi variasi suhu di bagian tepi dan tengah wafer. SK15 kompatibel dengan ruang bersih kelas 1–100, berkat desainnya yang minim partikel. Tidak ada pelepasan gas, debu filamen, atau serpihan akibat siklus pemanasan. Repeatabilitas proses sangat tinggi, karena suhu tetap berada dalam batas toleransi, dari siklus ke siklus.

Elemen pemanas oven pengering wafer

Sun, 21 Jun 2026 06:37:45 +0800

Dalam proses litografi, oven pengering wafer tidak hanya berfungsi untuk menghilangkan kelembapan saja. Fungsi utamanya adalah menentukan parameter suhu yang diperlukan dalam proses pemanasan fotoresist, baik yang bersifat ringan maupun intensif. Perbedaan suhu sebesar 2°C di area tertentu dapat menyebabkan perubahan ketebalan lapisan fotoresist, dan hal ini tidak akan terlihat pada grafik pengukuran apa pun, sampai akhirnya terjadi kerusakan pada lapisan fotoresist tersebut. Kami merancang komponen pemanas di oven pengering wafer kami sedemikian rupa agar hal tersebut tidak terjadi.