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		<title>Post on IR Heating Lamp Parts</title>
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				<title>Riscaldatore per cottura post esposizione (PEB)</title>
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				<pubDate>Fri, 03 Jul 2026 09:23:23 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-parts.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Riscaldatore per cottura post esposizione (PEB)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Nel settore della litografia, le variazioni di temperatura del PEB non vengono indicate da luci di allarme. Si manifestano invece come variazioni nella larghezza delle linee tracciate sulle wafer, con conseguente riduzione della resa produttiva; tali variazioni non possono essere individuate tramite alcun tipo di controllo. In una fabbrica di semiconduttori, la ripetibilità termica non è semplicemente un &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;fattore&lt;/a&gt; importante: è fondamentale per il corretto funzionamento dei processi produttivi.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Ciò che è importante dal punto di vista tecnico&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Abbiamo progettato il riscaldatore PEB utilizzando elementi a infrarossi a breve lunghezza d’onda e una struttura termica basata su quarzo. In questo modo, l’uniformità della temperatura sulla superficie su cui avviene la cottura delle wafer rimane entro i ±0,1°C. I valori di temperatura vengono mantenuti costanti, shot dopo shot, il che permette di mantenere stabile il processo di amplificazione chimica del fotorestatore. Il sistema è adatto per essere utilizzato in ambienti a norma ISO 1–100; i materiali utilizzati garantiscono che non si verifichi alcuna generazione di particelle. Il sistema funziona 24/7 senza interruzioni impreviste, e permette di ridurre il consumo energetico senza compromettere la stabilità termica.&lt;/p&gt;</description>
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