http://ir-heat-parts.com/it/tags/python/ Recent content in ```Python on IR Heating Lamp Parts Hugo it Tue, 21 Jul 2026 04:05:00 +0800 http://ir-heat-parts.com/it/posts/temperature-sensor-for-wafer-tool/ Tue, 21 Jul 2026 04:05:00 +0800 http://ir-heat-parts.com/it/posts/temperature-sensor-for-wafer-tool/ <p><img src="http://ir-heat-parts.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png" alt="Sensor di temperatura per strumento per wafer"></p> <p>Smettete di riscaldare lo strumento e iniziate invece a riscaldare il wafer stesso. Le lampade a infrarossi standard sono, in sostanza, semplici lampadine: emettono calore in tutte le direzioni. In un dispositivo per il trattamento dei wafer, questo rappresenta un grosso problema. Quando si aumenta l’intensità del calore, una grande quantità di energia non arriva nemmeno al wafer; invece, va a colpire le pareti interne della macchina. Di conseguenza, le pareti diventano molto calde, il che può causare danni alle parti interne della macchina o, peggio ancora, provocare ustioni agli operai durante le operazioni di manutenzione.</p> http://ir-heat-parts.com/it/posts/semiconductor-inspection-tool-heater/ Tue, 30 Jun 2026 05:28:44 +0800 http://ir-heat-parts.com/it/posts/semiconductor-inspection-tool-heater/ <p><img src="http://ir-heat-parts.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png" alt="Riscaldatore per strumenti di ispezione dei semiconduttori"></p> <p>Sulla linea di produzione, la stabilità durante l’ispezione viene misurata in gradi, non in minuti. Anche pochi decimi di grado di variazione durante il processo di essiccazione del fotoresist possono influire negativamente sulle dimensioni critiche dei componenti; inoltre, la presenza di particelle può compromettere completamente i risultati dell’ispezione. Abbiamo progettato questo riscaldatore apposta per eliminare tali variazioni.</p> <p><strong>Cosa abbiamo fatto per migliorarne le prestazioni</strong><br> Abbiamo utilizzato elementi a infrarossi a breve lunghezza d’onda e un design termico basato su materiali rinforzati con quarzo. Il tempo di accensione è rapido, mentre l’uniformità della temperatura sul wafer è di ±0,1°C. I valori di regolazione rimangono costanti sia durante i processi di essiccazione leggera che intensa, in modo che i tempi di esposizione e sviluppo non vengano influenzati negativamente.</p>