<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Berdesing on IR Heating Lamp Parts</title>
		<link>http://ir-heat-parts.com/ms/tags/berdesing/</link>
		<description>Recent content in Berdesing on IR Heating Lamp Parts</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 23 Jun 2026 00:35:49 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-parts.com/ms/tags/berdesing/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanas jenis sputtering untuk semikonduktor</title>
				<link>http://ir-heat-parts.com/ms/posts/semiconductor-sputtering-heater/</link>
				<pubDate>Tue, 23 Jun 2026 00:35:49 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-parts.com/ms/posts/semiconductor-sputtering-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-parts.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Pemanas jenis sputtering untuk semikonduktor&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di bilik pengeluaran semikonduktor, suhu yang ditetapkan bukanlah sekadar cadangan semata-mata – ia merupakan syarat penting dalam proses pengeluaran. Perubahan suhu sebanyak 0.5°C semasa fasa pemanasan awal boleh mengganggu kadar penumpukan bahan pada permukaan wafer. Selain itu, kelewatan permulaan proses di dalam bilik sputtering juga akan mempengaruhi masa operasi mesin, kerana perlu menunggu vakum mencapai &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;keadaan&lt;/a&gt; stabil. Kami mencipta pemanas semikonduktor ini agar tingkah laku termalnya dapat diramalkan dengan tepat, dari satu sesi pengeluaran ke sesi yang lain.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
