<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Dapur Pemanas on IR Heating Lamp Parts</title>
		<link>http://ir-heat-parts.com/ms/tags/dapur-pemanas/</link>
		<description>Recent content in Dapur Pemanas on IR Heating Lamp Parts</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 21 Jun 2026 06:37:45 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-parts.com/ms/tags/dapur-pemanas/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Elemen pemanas untuk ketuhar pengering wafer</title>
				<link>http://ir-heat-parts.com/ms/posts/wafer-drying-oven-heating-element/</link>
				<pubDate>Sun, 21 Jun 2026 06:37:45 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-parts.com/ms/posts/wafer-drying-oven-heating-element/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-parts.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Elemen pemanas untuk ketuhar pengering wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Dalam proses litografi, ketuhar pengering wafer bukan sekadar alat untuk mengeluarkan kelembapan sahaja. Ia juga berperanan menentukan suhu yang sesuai untuk proses pemrosesan fotoresist. Perbezaan suhu sebanyak 2°C pada permukaan wafer boleh menyebabkan perubahan pada lebar garisan yang terhasil, dan perubahan ini tidak akan dapat dilihat pada carta metrik sehingga berlaku kerugian pada kualiti wafer tersebut. Kami telah reka komponen pemanas dalam ketuhar pengering wafer ini agar perkara ini tidak berlaku.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Komponen pemanas tersebut terdiri daripada unsur inframerah gelombang pendek jenis kuarsa-halogen, yang digabungkan dengan arrai reflektor mikro-zon. Ia memastikan keseragaman suhu pada permukaan wafer pada tahap ±0.1°C untuk keseluruhan kumpulan wafer yang diproses, dengan ketepatan tetapan suhu sebanyak ±0.2°C. Komponen ini boleh beroperasi dalam persekitaran bilik bersih kelas 1–100 tanpa menghasilkan zarah-zarah kontaminan. Bahan-bahan yang digunakan juga kurang menghasilkan gas, dan reka bentuknya yang tertutup membantu mencegah kontaminasi. Perubahan suhu berlaku dengan cepat dan boleh dikawal dengan tepat, sehingga membolehkan proses pemrosesan fotoresist dilakukan dengan sempurna.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
