<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Dungun Memasak on IR Heating Lamp Parts</title>
		<link>http://ir-heat-parts.com/ms/tags/dungun-memasak/</link>
		<description>Recent content in Dungun Memasak on IR Heating Lamp Parts</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 28 Jun 2026 06:03:03 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-parts.com/ms/tags/dungun-memasak/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampu inframerah SK15 untuk ketuhar wafer</title>
				<link>http://ir-heat-parts.com/ms/posts/sk15-infrared-lamp-for-wafer-oven/</link>
				<pubDate>Sun, 28 Jun 2026 06:03:03 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-parts.com/ms/posts/sk15-infrared-lamp-for-wafer-oven/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-parts.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Lampu inframerah SK15 untuk ketuhar wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di bilik pengeluaran wafer, perubahan suhu semasa proses pengeringan wafer atau pemanasan bahan fotoresist bukan sahaja merosakkan kecekapan proses tersebut, tetapi juga boleh menyebabkan kerosakan pada wafer itu sendiri. Peningkatan suhu sebanyak 3°C pada permukaan wafer boleh mengganggu dimensi penting wafer tersebut. Proses pemanasan yang lambat pula boleh menyebabkan cecair terperangkap dalam wafer, lalu menimbulkan kecacatan. Lampu inframerah SK15 direka untuk &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;mengelakkan&lt;/a&gt; masalah ini dengan memberikan haba yang tepat, bukan secara rawak.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Apa yang penting dalam proses ini ialah kawalan suhu yang tepat. SK15 menggunakan elemen inframerah berfrekuensi tinggi yang bertindak balas dalam masa beberapa saat sahaja, supaya suhu dapat dikawal dengan baik. Pada wafer berukuran 300 mm, SK15 dapat mengekalkan suhu yang seragam sebanyak ±0.1°C. Spektrum cahaya yang dihasilkan oleh SK15 sesuai dengan penyerapan cahaya oleh bahan fotoresist, sehingga mengurangkan variasi suhu di bahagian tepi dan tengah wafer. Ia juga sesuai digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100, kerana reka bentuknya yang bebas daripada zarah-zarah kecil. Tidak ada pelepasan gas, debu filamen, atau serpihan akibat kitaran suhu yang berulang-ulang. Kita menekankan kebolehulangan proses ini, kerana proses litografi memerlukan ketepatan suhu yang tinggi; nilai suhu harus tetap dalam julat yang ditetapkan, dari satu kitaran ke kitaran yang lain.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
