Lampu on IR Heating Lamp Parts

Lampu inframerah untuk meja di bilik bersih

Tue, 28 Jul 2026 05:36:02 +0800

Memanaskan bilik bersih kelas 100 tanpa menimbulkan kekacauan
Ketika bekerja di bilik bersih kelas 100, perkara terakhir yang anda inginkan ialah komponen pemanas yang berfungsi seperti “meriam konfeti”. Kebanyakan pemanas biasa mempunyai masalah, iaitu mengeluarkan gas atau serpihan kecil. Jika sedikit zarah mikroskopik jatuh pada wafer atau lapisan optik, keseluruhan produk tersebut akan rosak. Kami telah melihat perkara ini berlaku berkali-kali. Itulah sebabnya kami menggunakan kuarsa sintetik berkualiti tinggi untuk lampu IR kami.

Rahsianya terletak pada kuarsa tersebut.
Kaca murah atau kuarsa berkualiti rendah tidak mampu menahan haba yang tinggi. Ia akan pecah akibat tekanan haba dan menghasilkan serpihan. Kuarsa berkualiti tinggi pula berbeza; ia boleh menahan perubahan suhu yang drastik tanpa pecah atau menghasilkan serpihan. Hasilnya? Satu-satunya benda yang keluar dari lampu tersebut ialah sinaran inframerah. Tiada debu, tiada serpihan, tiada masalah.

Pengilang lampu pengeringan inframerah yang berdaftar

Mon, 27 Jul 2026 09:46:36 +0800

Mengapa kita menggantikan penggunaan udara panas dengan lampu inframerah di kilang pemprosesan semikonduktor
Jika anda pernah bekerja dalam bidang pemprosesan semikonduktor, pasti anda tahu betapa menyusahkannya penggunaan ketuhar udara panas. Anda perlu menunggu untuk memastikan suhu mencapai tahap yang diinginkan. Ia seolah-olah memerlukan masa yang lama untuk memanaskan keseluruhan bilik hanya untuk memanaskan satu keping bahan sahaja.

Itulah sebabnya ramai daripada kami beralih kepada penggunaan lampu inframerah yang telah disahkan kualitinya. Ini kerana cara penyebaran haba yang berbeza. Udara panas bergantung pada proses konveksi – anda perlu memanaskan udara terlebih dahulu, kemudian dinding ketuhar, dan akhirnya bahan yang akan diproses. Ia merupakan proses yang lambat.

Lampu berlapis emas dengan dua tiub.

Sat, 25 Jul 2026 05:15:52 +0800

Berhenti menunggu masa yang lama: Mengapa penggunaan lampu inframerah berlapis emas adalah penyelesaian terbaik

Mari kita bincangkan tentang penggunaan udara panas dalam proses pemprosesan. Ini merupakan cara lama untuk memanaskan sesuatu objek. Anda memanaskan udara, dan berharap udara tersebut akan memanaskan objek tersebut. Masalahnya? Proses ini memerlukan masa yang sangat lama. Dalam proses pemprosesan semikonduktor, kelewatan ini bukan sahaja menyusahkan, tetapi juga menyebabkan kerugian kewangan.

Kami telah menemui cara yang lebih baik. Dengan menggunakan lampu inframerah berlapis emas, kita tidak perlu bergantung pada udara panas lagi, sebaliknya boleh menggunakan radiasi haba secara langsung. Ini merupakan perubahan besar dalam cara kita mengendalikan haba.

Perisai kaca kuarsa untuk lampu fabrikasi

Sat, 25 Jul 2026 05:08:49 +0800

Hentikan pembaziran tenaga: Cara yang lebih baik untuk mengendalikan lampu berkuasa tinggi

Dalam kilang semikonduktor, pembaziran tenaga sebenarnya sama saja seperti membuang wang secara sia-sia. Apabila lampu berkuasa tinggi digunakan untuk memproses wafer, sebahagian besar tenaga inframerah tersebut tidak sampai ke sasaran yang sepatutnya. Sebaliknya, tenaga tersebut akan terpantul kembali atau tersebar ke udara. Untuk mengatasi masalah ini, kita menggunakan pelindung yang dilapisi emas. Pelindung ini berfungsi untuk mengarahkan setiap watt tenaga ke tempat yang sepatutnya—terus ke wafer.

Pembias cahaya untuk lampu pengeringan wafer

Sat, 25 Jul 2026 04:54:06 +0800

Mengelakkan Lampu Pengeringan Wafer Daripada Meletup

Ketika proses pengeringan wafer berlangsung, adalah penting untuk memastikan suhu yang digunakan adalah sesuai. Namun, masalahnya ialah jika terdapat kebocoran elektrik atau lapisan penebat rosak, bukan sahaja tiub lampu akan rosak, tetapi keseluruhan wafer juga akan rosak, begitu juga dengan papan kawalan. Ini tentunya akan menyebabkan kerugian yang besar.

Untuk mengelakkan perkara ini daripada berlaku, kami memberi perhatian kepada dua faktor utama: kekuatan dielektrik dan rintangan penebat.

Ujian Tekanan

Kami tidak bergantung pada tekaan semata-mata. Setiap lampu akan diuji menggunakan voltan yang sangat tinggi, iaitu jauh lebih tinggi daripada voltan yang digunakan dalam mesin tersebut. Mengapa? Kerana sekiranya terdapat retakan kecil pada bahan kuarsa atau celah pada lapisan penebat, arus elektrik akan melalui celah tersebut. Kami menyebutnya sebagai kegagalan penebat. Lebih baik kegagalan ini berlaku di kilang kami sendiri, daripada mesin anda rosak semasa proses pengeluaran.

Lampu pemanas UHP (Ultra High Purity)

Thu, 23 Jul 2026 12:02:23 +0800

Berhenti membazir masa dengan kaedah yang tidak efektif: Mengapa UHP Inframerah adalah pilihan yang terbaik

Jika anda masih bergantung pada kaedah penggunaan udara panas untuk proses pemprosesan semikonduktor, kemungkinan besar anda sedang membuang banyak masa hanya untuk menunggu.

Fikirkan bagaimana udara panas berfungsi. Anda perlu memanaskan udara tersebut, kemudian mengalirkannya ke seluruh kawasan yang diperlukan. Selepas itu, anda perlu menunggu sehingga suhu wafer mencapai tahap yang diinginkan. Dalam sebuah kilang yang memproses banyak wafer setiap hari, kelewatan ini sangat merugikan. Ia akan mengurangkan keuntungan anda dan melambatkan proses pemprosesan.

Reflektor aluminium untuk lampu IR

Mon, 20 Jul 2026 11:55:26 +0800

Hentikan pembaziran tenaga IR anda

Mari kita jujur: pembaziran tenaga sebenarnya merupakan kelemahan dalam reka bentuk peralatan tersebut. Dalam proses pemprosesan wafer, perkara ini sering berlaku. Kebanyakan orang menggunakan reflektor yang diperbuat daripada aluminium biasa. Namun, masalahnya ialah tenaga IR tersebut banyak yang terbuang atau diserap oleh badan peralatan tersebut. Ini merupakan pembaziran yang tidak perlu.

Itulah sebabnya kami menggunakan reflektor yang dilapisi emas. Emas lebih efektif dalam memantulkan cahaya inframerah. Dengan cara ini, tenaga tersebut akan sampai ke wafer dengan tepat, tanpa menyebabkan bahagian mesin menjadi panas secara tidak perlu.

Lampu inframerah tanpa ozon

Mon, 20 Jul 2026 11:48:52 +0800

Mengelakkan Bahaya Semasa Memanaskan Bahan Kimia yang Mudah Terbakar
Sejujurnya, memanaskan bahan kimia yang digunakan untuk pembersihan merupakan tugas yang sangat berisiko. Anda perlu berhadapan dengan wap-wap yang mudah terbakar, dan perkara terakhir yang anda inginkan ialah berlakunya percikan api atau reaksi yang boleh menyebabkan kawasan kerja anda menjadi zon bencana.

Lampu IR biasa sebenarnya tidak sesuai digunakan dalam situasi seperti ini. Lampu tersebut menghasilkan ozon serta sinaran UV yang berenergi tinggi. Dalam ruang yang penuh dengan bahan kimia yang mudah terbakar, ozon akan bertindak sebagai katalis untuk memicu kebakaran. Ini merupakan risiko yang tidak sepatutnya diambil.

Pembuatan biosensor menggunakan lampu inframerah

Fri, 17 Jul 2026 07:50:29 +0800

Mengawal Suhu Dengan Betul Semasa Pembuatan Biosensor

Jika anda sedang membina biosensor, anda pasti tahu betapa sukarnya proses ini. Anda memerlukan suhu yang tepat – tidak terlalu panas, dan juga tidak terlalu sejuk. Jika tidak, substrat akan rosak, dan ikatan kimia antara komponen-komponen tersebut juga akan terputus.

Selama ini, kita biasanya menggunakan ketuhar konvektif untuk memanaskan bahan-bahan tersebut. Namun, cara ini sangat lambat. Itulah sebabnya kita beralih kepada sistem inframerah (IR). Sistem ini dapat memanaskan atau menyejukkan bahan dengan cepat. Inilah satu-satunya cara untuk memastikan proses pembuatan berjalan lancar tanpa masalah.

Lampu inframerah yang tahan air untuk proses membilas.

Wed, 15 Jul 2026 10:10:11 +0800

Melindungi Lampu Pemanas Infra Merah daripada Bahaya di Laluan Penyucian Kimia

Sejujurnya, lampu inframerah biasa tidak sesuai digunakan di laluan penyucian kimia. Lampu tersebut akan rosak dengan cepat. Apabila bahan pelarut yang mudah terbakar berada berhampiran komponen pemanasan yang berkuasa tinggi, ini bukan sahaja akan menyebabkan kerosakan peralatan, tetapi juga berisiko kepada letupan. Ini merupakan cara yang berbahaya untuk mengendalikan operasi loji.

Itulah sebabnya kami mencipta lampu inframerah yang tahan air. Lampu ini direka khusus untuk digunakan di kawasan yang berbahaya dan kotor, di mana peralatan lain tidak dapat berfungsi dengan baik.

Lampu inframerah daripada serat karbon

Sat, 11 Jul 2026 09:17:44 +0800

Cara Melindungi Lampu Inframerah Berbahan Karbon Serat Daripada Rosak

Lampu inframerah berbahan karbon serat perlu menanggung suhu yang sangat tinggi, dan memerlukan voltan yang spesifik untuk berfungsi dengan baik. Jika lampu ini digunakan dalam peralatan industri berteknologi tinggi, kita tidak boleh mengambil risiko. Sebarang kebocoran insulasi yang kecil pun boleh menyebabkan litar terputus, atau lebih buruk lagi, merosakkan papan kawalan peralatan tersebut.

Itulah sebabnya kami tidak melakukan ujian secara rawak. Setiap lampu akan diuji untuk ketahanan voltan dan rintangan insulasi sebelum ia keluar dari bengkel kami.

Filamen pengganti untuk lampu fab

Sun, 05 Jul 2026 13:04:44 +0800

Pendahuluan
Kami menghasilkan mentol pengganti untuk lini pembuatan dan pembungkusan. Anda memerlukan sumber haba yang berfungsi sebaik mentol asalnya, tetapi pada masa yang sama tidak menambah beban kewangan anda. Mentol inframerah berkualiti tinggi yang kami hasilkan direka khas untuk digunakan secara langsung sebagai pengganti mentol asal. Ia mempunyai saiz yang serupa dengan mentol asal, serta ciri-ciri termal yang sama. Dengan ini, proses pengeluaran anda akan berjalan tanpa sebarang masalah.

Tenaga, Voltan, dan Penyesuaian – Dalam Bahasa Mudah
Intinya adalah tiub kuarsa sepanjang 300 mm, yang biasanya mempunyai kuasa 2500W, dan direka untuk beroperasi pada voltan 400V. Pemilihan voltan 400V bukanlah sesuatu yang rawak. Ia membolehkan mentol menghasilkan haba yang tinggi, namun menggunakan arus yang lebih sedikit. Ini seterusnya mengurangkan beban pada sistem pengagihan tenaga dan kabel. Panjang 300 mm dan diameter yang kecil pula membolehkan mentol ini dipasang dalam ruang yang sempit.

Lampu inframerah SK15 untuk ketuhar wafer

Sun, 28 Jun 2026 06:03:03 +0800

Di bilik pengeluaran wafer, perubahan suhu semasa proses pengeringan wafer atau pemanasan bahan fotoresist bukan sahaja merosakkan kecekapan proses tersebut, tetapi juga boleh menyebabkan kerosakan pada wafer itu sendiri. Peningkatan suhu sebanyak 3°C pada permukaan wafer boleh mengganggu dimensi penting wafer tersebut. Proses pemanasan yang lambat pula boleh menyebabkan cecair terperangkap dalam wafer, lalu menimbulkan kecacatan. Lampu inframerah SK15 direka untuk mengelakkan masalah ini dengan memberikan haba yang tepat, bukan secara rawak.

Apa yang penting dalam proses ini ialah kawalan suhu yang tepat. SK15 menggunakan elemen inframerah berfrekuensi tinggi yang bertindak balas dalam masa beberapa saat sahaja, supaya suhu dapat dikawal dengan baik. Pada wafer berukuran 300 mm, SK15 dapat mengekalkan suhu yang seragam sebanyak ±0.1°C. Spektrum cahaya yang dihasilkan oleh SK15 sesuai dengan penyerapan cahaya oleh bahan fotoresist, sehingga mengurangkan variasi suhu di bahagian tepi dan tengah wafer. Ia juga sesuai digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100, kerana reka bentuknya yang bebas daripada zarah-zarah kecil. Tidak ada pelepasan gas, debu filamen, atau serpihan akibat kitaran suhu yang berulang-ulang. Kita menekankan kebolehulangan proses ini, kerana proses litografi memerlukan ketepatan suhu yang tinggi; nilai suhu harus tetap dalam julat yang ditetapkan, dari satu kitaran ke kitaran yang lain.

Lampu pengering wafer yang murah

Fri, 26 Jun 2026 05:25:40 +0800

Di bilik pengeringan wafer, perubahan suhu semasa proses pengeringan bukanlah masalah yang boleh diabaikan. Perubahan ini memberi kesan besar terhadap kualiti wafer yang dihasilkan. Tempoh masa pengeringan yang diperlukan sudah pun ditetapkan dengan ketat, dan jika suhu di seluruh permukaan wafer tidak seragam, ia akan menyebabkan ralat dimensi pada wafer tersebut setelah proses pendedahan selesai. Kami mencipta mentol lampu pengeringan ini untuk mengelakkan perubahan suhu tersebut.

Apa yang penting dalam reka bentuknya
Kami menggunakan elemen halogen berpanjang gelombang pendek yang diletakkan dalam kelopak kuarza. Elemen ini dipilih kerana kemampuannya untuk memberikan respons yang cepat serta keluaran spektrum yang stabil. Mentol ini mampu mengekalkan suhu yang seragam sekitar ±0.1°C di seluruh permukaan wafer, dengan toleransi ±0.5°C. Keluaran cahaya dari mentol ini disesuaikan agar sesuai dengan panjang gelombang 300–400 nm, supaya proses penguapan pelarut dapat berjalan secara konsisten tanpa berlaku peningkatan suhu yang berlebihan. Mentol ini boleh digunakan dalam soket standard, dengan voltan dan kuasa yang telah ditetapkan. Selain itu, ia juga sesuai digunakan dalam persekitaran makmal bersih dari kelas 1 hingga kelas 100. Reka bentuk mentol yang kedap dan bahan-bahan yang digunakan membantu mengurangkan penghasilan zarah-zarah kecil, sehingga jumlah zarah tetap stabil sepanjang proses pengeringan.

Lampu pengeringan wafer secara borong

Thu, 25 Jun 2026 05:04:51 +0800

Di bilik pemprosesan wafer, seseorang akan cepat belajar bahawa walaupun perbezaan suhu sebanyak 1.2°C sahaja pun sudah cukup untuk menyebabkan wafer keluar dari mesin pengering dengan suhu yang tidak sesuai untuk proses litografi. Apabila saiz nod semakin mengecil, toleransi suhu yang diperlukan untuk proses pembakaran fotorezist menjadi lebih ketat. Lampu pengering perlu menghasilkan haba yang konsisten dan cepat, tanpa menghasilkan zarah-zarah tercemar.

Apa yang penting dari segi teknikal:
Kami menggunakan lampu pengering wafer yang mempunyai pemancar inframerah gelombang pendek. Pemancar ini menciptakan medan haba yang seragam di seluruh permukaan wafer. Sasaran yang ingin dicapai ialah ketepatan suhu sekitar ±0.1°C, diukur tepat pada permukaan wafer. Respons haba yang cepat dapat mengurangkan masa proses, dan badan lampu tersebut direka untuk digunakan dalam persekitaran bersih kelas 1–100, tanpa pengeluaran zarah tercemar. Output lampu kekal stabil dalam lingkungan 1% selepas 5,000 jam penggunaan, jadi profil suhu tetap konsisten.

Lampu dengan pembungkusan cip Mini LED

Tue, 23 Jun 2026 00:43:33 +0800

Di bahagian pengeluaran tersebut, wafer sebesar 300mm itu menunggu giliran untuk diproses menggunakan lampu khusus yang digunakan untuk proses pembungkusan cip Mini LED. Lampu ini berfungsi untuk memastikan proses penyatuan komponen berjalan dengan lancar, serta meningkatkan kebolehpercayaan produk akhir. Jika suhu semasa proses pembakaran berubah sedikit sahaja, struktur lapisan fotoresist akan rosak, ruang kosong akan terbentuk, dan hasil pengeluaran akan menurun. Kami mencipta lampu ini agar proses pengeluaran dapat berjalan dengan lancar, dari satu syif ke syif yang lain.

Lampu penghilang kelembapan wafer

Thu, 04 Jun 2026 03:48:16 +0800

Out on the fab floor, kelembapan terperangkap—dalam photoresist atau di antara wafer—menyebabkan gangguan dalam kawalan terma. Ia menghamburkan haba, dan profil soft bake serta hard bake menjadi tidak tepat. Akibatnya ialah footing, scumming, dan variasi lebar garis yang menurunkan hasil. Kami membangunkan lampu penyingkiran kelembapan wafer untuk menghilangkan pemboleh ubah tersebut daripada persamaan.

Apa yang sebenarnya penting di bawah hud

Kami menggunakan pemancar halogen gelombang pendek dalam sampul kuarza, dipadankan dengan pirometer gelung tertutup. Hasilnya adalah keseragaman terma pada tahap wafer dalam ±0.1°C, dan tindak balasnya di bawah satu saat, jadi kelajuan pemanasan kekal ketat sepanjang lengkung pembakaran. Modul ini dipasang dalam bilik bersih Kelas 1–100 dan mengekalkan bilangan zarah stabil secara rekabentuk: pemasangan lampu tidak menghasilkan zarah, dan lapisan dalam ruang adalah inert dan tidak mengeluarkan gas. Ketumpatan kuasa disesuaikan dengan bajet terma nod maju, dan kebolehulangan dipastikan oleh jadual emisiviti terkalibrasi bagi setiap lapisan filem.