Lampu penghilang kelembapan wafer

Thu, 04 Jun 2026 03:48:16 +0800

Out on the fab floor, kelembapan terperangkap—dalam photoresist atau di antara wafer—menyebabkan gangguan dalam kawalan terma. Ia menghamburkan haba, dan profil soft bake serta hard bake menjadi tidak tepat. Akibatnya ialah footing, scumming, dan variasi lebar garis yang menurunkan hasil. Kami membangunkan lampu penyingkiran kelembapan wafer untuk menghilangkan pemboleh ubah tersebut daripada persamaan.

Apa yang sebenarnya penting di bawah hud

Kami menggunakan pemancar halogen gelombang pendek dalam sampul kuarza, dipadankan dengan pirometer gelung tertutup. Hasilnya adalah keseragaman terma pada tahap wafer dalam ±0.1°C, dan tindak balasnya di bawah satu saat, jadi kelajuan pemanasan kekal ketat sepanjang lengkung pembakaran. Modul ini dipasang dalam bilik bersih Kelas 1–100 dan mengekalkan bilangan zarah stabil secara rekabentuk: pemasangan lampu tidak menghasilkan zarah, dan lapisan dalam ruang adalah inert dan tidak mengeluarkan gas. Ketumpatan kuasa disesuaikan dengan bajet terma nod maju, dan kebolehulangan dipastikan oleh jadual emisiviti terkalibrasi bagi setiap lapisan filem.

Pemindahan on IR Heating Lamp Parts

Lampu penghilang kelembapan wafer