<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Pendedahan on IR Heating Lamp Parts</title>
		<link>http://ir-heat-parts.com/ms/tags/pendedahan/</link>
		<description>Recent content in Pendedahan on IR Heating Lamp Parts</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 03 Jul 2026 09:23:23 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-parts.com/ms/tags/pendedahan/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanas untuk proses Post Exposure Bake (PEB)</title>
				<link>http://ir-heat-parts.com/ms/posts/post-exposure-bake-peb-heater/</link>
				<pubDate>Fri, 03 Jul 2026 09:23:23 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-parts.com/ms/posts/post-exposure-bake-peb-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-parts.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Pemanas untuk proses Post Exposure Bake (PEB)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di bilik litografi, perubahan suhu PEB tidak ditunjukkan melalui lampu amaran. Sebaliknya, perubahan tersebut akan menyebabkan &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;perbezaan&lt;/a&gt; ketebalan &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;garisan&lt;/a&gt; pada permukaan wafer, dan seterusnya mengakibatkan penurunan kualiti wafer yang sukar untuk dikenal pasti melalui proses pemeriksaan biasa. Dalam sebuah kilang pembuatan semikonduktor, kestabilan suhu merupakan faktor penting; ia merupakan asas kepada &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;kawalan&lt;/a&gt; proses pengeluaran.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting dari segi teknikalnya:&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Kami membina pemanas PEB menggunakan unsur inframerah gelombang pendek serta struktur haba berasaskan kuarsa. Ini membolehkan keseragaman suhu pada permukaan wafer mencapai ±0.1°C. Nilai suhu yang ditetapkan kekal stabil dari satu sesi pemprosesan ke sesi yang lain, sekaligus memastikan proses penghasilan fotoresist berjalan dengan lancar. Sistem ini sesuai digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100, dengan bahan-bahan yang digunakan mampu mengelakkan penjanaan zarah-zarah berbahaya. Sistem ini boleh beroperasi 24/7 tanpa gangguan, sambil tetap menjaga tahap penggunaan tenaga yang rendah tanpa mengorbankan kestabilan suhu.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
