http://ir-heat-parts.com/ms/tags/simpanan/ Recent content in Simpanan on IR Heating Lamp Parts Hugo ms Sat, 04 Jul 2026 11:42:37 +0800 http://ir-heat-parts.com/ms/posts/wafer-processing-spare-parts-online/ Sat, 04 Jul 2026 11:42:37 +0800 http://ir-heat-parts.com/ms/posts/wafer-processing-spare-parts-online/ <p><img src="http://ir-heat-parts.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="Alat ganti untuk pemprosesan wafer secara dalam talian"></p> <p><strong>Pendahuluan</strong><br> Kami menghasilkan lampu pemanas jenis halogen, tetapi bukanlah jenis yang biasa digunakan di bengkel-bengkel biasa. Lampu-lampu ini direka khusus untuk digunakan dalam proses pemprosesan wafer. Ia merupakan alat ganti yang sesuai untuk digunakan dalam fasiliti pemprosesan canggih yang memerlukan suhu yang tinggi dan konsisten, tanpa perlu menggunakan ruang yang banyak.</p> <p><strong>Mengenai kuasa, voltan, dan penyesuaian</strong><br> Dalam proses pemprosesan wafer, lampu-lampu ini biasanya direka untuk menghasilkan kuasa sebanyak 2500W pada voltan 400V. Pemilihan voltan ini sangat penting; ia membolehkan bekalan kuasa beroperasi pada arus yang lebih rendah untuk mendapatkan kuasa yang sama, sekaligus mengurangkan kerugian tenaga dan menjadikan kotak kawalan lebih sejuk. Hasilnya, output lampu akan tetap stabil walaupun digunakan untuk jangka masa yang lama.</p> http://ir-heat-parts.com/ms/posts/leybold-vacuum-heater-spare/ Mon, 29 Jun 2026 07:27:29 +0800 http://ir-heat-parts.com/ms/posts/leybold-vacuum-heater-spare/ <p><img src="http://ir-heat-parts.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png" alt="Alat ganti pemanas vakum Leybold"></p> <p>Dalam proses pembakaran bahan fotoresist ini, kawalan ketebalan garisan merupakan faktor yang paling penting. Sebarang perubahan suhu sebanyak 0.5°C sahaja sudah cukup untuk menyebabkan perubahan pada dimensi komponen tersebut, serta meningkatkan risiko kegagalan proses. Komponen pemanas dari Leybold direka untuk memastikan suhu tetap stabil, walaupun beroperasi dalam keadaan vakum, sepanjang masa.</p> <p><strong>Apa yang penting dari segi teknikalnya:</strong> Kami menggunakan <a href="https://henruite.com">pemancar</a> halogen berfrekuensi tinggi yang diperbuat daripada kuarsa berkualiti tinggi. Pemanas ini mempunyai kemampuan untuk menghasilkan suhu yang seragam di seluruh permukaan wafer. Badan pemanas ini juga sesuai digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100. Reka bentuknya juga memastikan tiada zarah-zarah terhasil semasa proses pemanasan. Ketepatan suhu yang <a href="https://o-yate.com">dicapai</a> adalah±0.1°C, sehingga memastikan profil pemanasan tetap konsisten. Daya yang diperlukan untuk pemanasan ini disesuaikan dengan platform Leybold, dan sambungan serta susunan terminalnya memudahkan proses pertukaran komponen. Penggunaan bahan penebat gentian karbon membantu mengekalkan haba di tempat yang sepatutnya, sekaligus mengurangkan penggunaan tenaga tanpa mengganggu prestasi pemanas.</p>