http://ir-heat-parts.com/ms/tags/tool/ Recent content in Tool on IR Heating Lamp Parts Hugo ms Tue, 21 Jul 2026 04:05:00 +0800 http://ir-heat-parts.com/ms/posts/temperature-sensor-for-wafer-tool/ Tue, 21 Jul 2026 04:05:00 +0800 http://ir-heat-parts.com/ms/posts/temperature-sensor-for-wafer-tool/ <p><img src="http://ir-heat-parts.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png" alt="Penderia suhu untuk alat pemprosesan wafer"></p> <h1 id="hentikan-proses-pemanasan-alat-tersebut-dan-mulakan-pemanasan-wafer-saja">Hentikan proses pemanasan alat tersebut, dan mulakan pemanasan wafer saja.</h1> <p>Lampu inframerah biasa sebenarnya <a href="https://o-yate.net">hanyalah</a> mentol lampu biasa – ia memancarkan haba ke <a href="https://henruite.com">semua</a> arah. Dalam alat yang digunakan untuk memproses wafer, ini merupakan masalah besar.</p> <p>Apabila suhu dipertingkatkan, sebahagian besar tenaga tersebut tidak sampai ke wafer. Sebaliknya, ia akan terkena dinding dalaman mesin tersebut. Ini akan menyebabkan dinding tersebut menjadi panas, lalu merosakkan komponen dalaman mesin tersebut. Lebih buruk lagi, ia boleh menyebabkan pekerja cedera akibat terbakar semasa melakukan kerja penyelenggaraan rutin.</p> http://ir-heat-parts.com/ms/posts/semiconductor-inspection-tool-heater/ Tue, 30 Jun 2026 05:28:44 +0800 http://ir-heat-parts.com/ms/posts/semiconductor-inspection-tool-heater/ <p><img src="http://ir-heat-parts.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png" alt="Alat pemanas untuk pemeriksaan semikonduktor"></p> <p>Dalam proses pemeriksaan, kestabilan suhu diukur dalam darjah, <a href="https://o-yate.com">bukan</a> minit. Sedikit saja perubahan suhu semasa proses pembakaran bahan fotoresist sudah cukup untuk mengganggu dimensi yang kritikal. Selain itu, kehadiran zarah-zarah tertentu juga boleh merosakkan hasil pemeriksaan. Kami mencipta alat pemanas ini untuk mengurangkan variasi suhu tersebut.</p> <p><strong>Apa yang telah kami lakukan</strong><br> Kami menggunakan elemen inframerah berfrekuensi rendah serta reka bentuk termal yang diperkukuh dengan kuarsa. Proses peningkatan suhu berlaku dengan cepat, dan ketekalan suhu pada tahap wafer adalah sekitar ±0.1°C. Nilai tetap suhu dapat dipertahankan sepanjang proses pembakaran, sehingga hasil pemeriksaan tetap konsisten.</p>