Bij de lithografie gaat het bij de droogoven voor wafers niet alleen om het verwijderen van vocht. Het bepaalt ook de thermische omstandigheden die nodig zijn voor elke volgende verwerking van de fotorezistent. Een temperatuurverschil van 2°C op het oppervlak van de wafel kan leiden tot verschillen in de dikte van de laag die wordt gecreëerd. Deze verschillen blijven onopgemerkt tot er problemen optreden. Wij hebben de verwarmingscomponenten van onze droogoven zo ontworpen dat dit niet gebeurt.
De kern van deze componenten bestaat uit een kwarts-halogeen-infraroodapparaat, gecombineerd met een matrix van reflectoren. Hierdoor blijft de uniformiteit van de temperatuur op het oppervlak van de wafel binnen ±0,1°C, met een herhalbaarheid van ±0,2°C. De componenten kunnen worden gebruikt in schoonruimtes van klasse 1–100, zonder dat er deeltjes vrijkomen. Het gebruik van materiaal met weinig uitstoot en gesloten constructies zorgt er bovendien voor dat er geen contaminatie optreedt. De temperatuur kan snel en nauwkeurig worden geregeld, zodat je precies de gewenste thermische omstandigheden kunt bereiken tijdens de verwerking van de fotorezistent.
Dit betekent dat er een stabiele controle over de cruciale dimensies mogelijk is, waardoor er minder producten hoeven te worden herwerkt. De componenten werken 24/7, met voorspelbare onderhoudskosten. Dankzij de nauwkeurige temperatuurregeling wordt energieverbruik per cyclus verminderd. Je krijgt dus consistente resultaten bij elke verwerking, ongeacht het type oven.
De installatie is eenvoudig, maar moet wel als een procesvariabele worden gezien. Het luchtcirculatiepatroon van de oven en de toleranties bij het monteren van de componenten bepalen de daadwerkelijke uniformiteit. Controleer dus altijd de kalibratie van de oven na het vervangen van de componenten. Beschouw de componenten als onderdeel van het thermische systeem, en niet als een apart onderdeel. Op deze manier werkt de oven altijd zoals verwacht.