Groothandelslamp voor het drogen van wafers

Thu, 25 Jun 2026 05:04:51 +0800

Op de productieafdeling leer je al snel dat een wafer die uit de droogmachine komt met een temperatuurverschil van maar 1,2°C, toch buiten het thermische bereik van de lithografieproces kan vallen. Naarmate de afmetingen van de chips kleiner worden, worden de toleranties voor het ‘soft baking’ en ‘hard baking’ steeds strikter – dat is geen verrassing. De drooglamp moet dus nauwkeurig en snel warmte leveren, zonder dat er particules vrijkomen.

Wat technisch belangrijk is: We gebruiken drooglampen die gebruikmaken van kortegolf-infrarode stralers. Hierdoor wordt er een gelijkmatig warmtestraalveld gecreëerd over het hele oppervlak van de wafer. Het doel is om een temperatuurconsistentie van ±0,1°C te bereiken, gemeten rechtstreeks op het procesoppervlak. Een snelle thermische reactie verkort de verwerkingstijd. De lamp is ontworpen voor gebruik in schoonruimten van klasse 1–100: er mogen geen particules vrijkomen. De uitgangstemperatuur blijft gedurende meer dan 5.000 uur binnen 1% stabiel, zodat het procesprofiel constant blijft.

Groothandel on IR Heating Lamp Parts

Groothandelslamp voor het drogen van wafers