Lamp voor het verwijderen van vocht van wafers

Thu, 04 Jun 2026 03:48:15 +0800

Op de fabrieksvloer zorgt gevangen vocht—of in de fotolaag of aan de waferinterface—voor problemen met de thermische controle. Het verstrooit warmte en je soft bake en hard bake profielen lopen uit de pas. Het gevolg zijn voetafdrukken, scumming en afwijkingen in de lijnbreedte die de opbrengst verminderen. We hebben een wafer vochtverwijderingslamp ontwikkeld om deze variabele uit de vergelijking te halen.
Wat er werkelijk toe doet onder de motorkap
We gebruiken een kortegolf halogeenemitter binnen een quartz omhulsel, gekoppeld aan een gesloten-circuit pyrometer. Het resultaat is thermische uniformiteit op wafer-niveau binnen ±0,1°C, en de respons is sub-seconde, zodat de stijging strak blijft over de bakecurve. De module kan worden geplaatst in Class 1–100 cleanrooms en houdt de deeltjestelling constant door ontwerp: de lampassemblage genereert geen deeltjes en de kamerbekleding is inert en niet-uitgasend. De vermogensdichtheid is afgestemd op het thermische budget van geavanceerde nodes, en de herhaalbaarheid is verankerd door een gekalibreerde emissiviteitstabel per filmstapel.
Waarom dit belangrijk is in lithografie en verpakking
In lithografie drijft de soft bake oplosmiddelverdamping en stelt deze filmstress in; de hard bake stabiliseert de maskinterface vóór etsen. Verwijder het vocht stroomopwaarts, en beide bakken blijven op koers. Dit resulteert in minder herwerk en betere uniformiteit van de kritische dimensies.
Je krijgt ook snellere coat-bake cycli zonder thermische overshoot, en lagere energie per batch dankzij efficiënte NIR-koppeling. Van batch tot batch blijven de resultaten consistent. Op verpakkingslijnen droogt het de voorbereidingsoppervlakken voor ondervulling, waardoor voids worden verminderd en de hechting verbetert.
De praktische details waar je rekening mee moet houden
De installatie vereist een speciale afvoerpijp en een schone stroomtoevoer om de temperatuurafwijking onder 0,2°C/uur te houden. De lampkop interfacing met standaard trackpoorten, maar de voetafdruk past niet in sommige oudere coat-bake cellen zonder een kleine mechanische adapter.
Voer een korte kwalificatie uit om de emissiviteit per stapel in kaart te brengen en stel de offset van de pyrometer in. Eenmaal gekalibreerd, blijft het proces stabiel en draait de lamp 24/7 met minimale outputverval.

Vocht on IR Heating Lamp Parts

Lamp voor het verwijderen van vocht van wafers