Lâmpada de remoção de umidade do wafer

Thu, 04 Jun 2026 03:48:15 +0800

No chão da fábrica

A umidade retida – no fotoresiste ou na interface do wafer – atrapalha o controle térmico. Ela dispersa calor, e seus perfis de soft bake e hard bake se desviam do alvo. O resultado é footing, scumming e variações na largura de linha que comprometem o rendimento. Desenvolvemos uma lâmpada de remoção de umidade de wafer para eliminar essa variável da equação.

O que realmente importa por trás das cenas Utilizamos um emissor de halogênio de onda curta dentro de um envelope de quartzo, emparelhado com um pirômetro de circuito fechado. O resultado é uniformidade térmica a nível de wafer dentro de ±0.1°C, e a resposta é sub-segundo, de modo que a rampa se mantém consistente ao longo da curva de bake. O módulo se adapta a salas limpas de Classe 1–100 e mantém a contagem de partículas estável por design: o conjunto da lâmpada não gera partículas, e o revestimento da câmara é inerte e não expele gases. A densidade de potência é ajustada ao orçamento térmico de nós avançados, e a repetibilidade é ancorada por uma tabela de emissividade calibrada por pilha de filme.

Umidade on IR Heating Lamp Parts

Lâmpada de remoção de umidade do wafer

No chão da fábrica