Litografi işlemlerinde, wafer kurutma fırını sadece nemin giderilmesiyle ilgili değildir. Aynı zamanda, sonraki her bir fotoresist işlemi için gerekli olan termal koşulları belirler. Chuck bölgesindeki 2°C’lik bir sıcaklık farkı, çizgi genişliklerinde değişikliklere neden olabilir; bu durum, kalite kontrol cihazlarında herhangi bir değişiklik olarak görülmez, ta ki ürünlerin kalitesi bozulana kadar. Biz de bunu engellemek için wafer kurutma fırınının ısıtma elemanlarını özel olarak tasarladık.
Isıtma elemanı, kuvars-halojen kısa dalga kızılötesi elemanlarından oluşur ve bunlar mikro-bölgeleyici yansıtıcılarla birlikte kullanılır. Bu sayede tüm partide waferler arasındaki sıcaklık farkı ±0,1°C dahilinde tutulur ve ayarlanan sıcaklık değerlerinin tekrarlanabilirliği ise ±0,2°C’dir. Bu elemanlar, 1–100 sınıfı temiz oda koşullarında çalışır ve parçacık üretmez; düşük gaz salınımı olan malzemeler ve mühürlü yapı sayesinde kontaminasyon engellenir. Sıcaklık artışları hızlı ve kontrol edilebilir olduğundan, fotoresist işlemleri için tam olarak istenen termal profilde çalışılır.
Üretim sürecinde bu durum, stabil kritik boyut kontrolü ve daha az yeniden işleme gerektirir. Isıtma elemanları 7/24 çalışır ve bakımı kolaydır. Sağlam termal kontrol sayesinde her döngüde enerji tasarrufu sağlanır. Böylece farklı fırın platformlarında bile her seferinde tutarlı kurutma ve işleme sonuçları elde edilir.
Montajı oldukça basittir; ancak termal bağlantıyı bir proses değişkeni olarak görmek gerekir. Fırının hava akış deseni ve elemanların montaj toleransları, elde edilen homojenliği belirler. Bu yüzden değişimden sonra fırının kalibrasyonunun kontrol edilmesi gerekir. Elemanı bağımsız bir parça olarak değil, termal sistemin bir parçası olarak görmek gerekir; böylece fırın her seferinde belirlenen şekilde çalışır.