<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Віфлеєм on IR Heating Lamp Parts</title>
		<link>http://ir-heat-parts.com/uk/tags/%D0%B2%D1%96%D1%84%D0%BB%D0%B5%D1%94%D0%BC/</link>
		<description>Recent content in Віфлеєм on IR Heating Lamp Parts</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>uk</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 21 Jun 2026 06:37:45 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-parts.com/uk/tags/%D0%B2%D1%96%D1%84%D0%BB%D0%B5%D1%94%D0%BC/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Елемент нагріву для печі для сушіння вафер</title>
				<link>http://ir-heat-parts.com/uk/posts/wafer-drying-oven-heating-element/</link>
				<pubDate>Sun, 21 Jun 2026 06:37:45 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-parts.com/uk/posts/wafer-drying-oven-heating-element/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-parts.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Елемент нагріву для печі для сушіння вафер&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;У процесі літографії піч для сушіння пластини не лише видаляє вологу. Вона також визначає температурний режим для подальших процедур обробки фоточутливого шару. Навіть незначна різница температури на поверхні пластини може призвести до зміни її параметрів, що не буде помітно на жодних датчиках контролю, поки не почнеться зниження якості продукції. Ми розробили елемент нагріву для печі, який запобігає цьому.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Основою елемента є кварцово-галогенний інфрачервоний елемент короткохвильового діапазону, поєднаний із мікрорегульованим відбивачем. Цей елемент забезпечує однорідність температури на всій поверхні пластини в межах ±0,1°C, а точність регулювання – ±0,2°C. Елемент може працювати в умовах чистої кімнати класу 1–100 без утворення частинок; матеріали з низьким рівнем випаровування та герметичне виконання елемента запобігають забрудненню. Температура може швидко та контрольовано змінюватися, що дозволяє досягти саме того температурного профілю, який необхідний для обробки фоточутливого шару.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
