http://ir-heat-parts.com/uk/tags/%D0%B4%D1%83%D1%85%D0%BE%D0%B2%D0%BA%D0%B0/ Recent content in Духовка on IR Heating Lamp Parts Hugo uk Thu, 23 Jul 2026 12:09:15 +0800 http://ir-heat-parts.com/uk/posts/clean-room-oven-infrared-heater/ Thu, 23 Jul 2026 12:09:15 +0800 http://ir-heat-parts.com/uk/posts/clean-room-oven-infrared-heater/ <p><img src="http://ir-heat-parts.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png" alt="Піч для чистих приміщень з інфрачервоним нагрівачем"></p> <p>Чому ми замінюємо холодне повітря на інфрачервоне опалення в чистих приміщеннях<br> У процесі обробки напівпровідників все зводиться до одного фактора – часу. Якщо ви все ще використовуєте примусове повітря для сушіння чи видалення газів, напевно, вже стикалися з проблемою, коли піч просто не встигає впоратися з обсягом роботи. Саме тому багато хто переходить на використання інфрачервоного опалення.</p> <p>Традиційні печі працюють шляхом нагрівання повітря, а потім сподіваються, що це повітря нагріє деталь. Це повільний процес. Існує також проблема „термічної затримки“ – тепло мусить пройти через певний шар повітря, перш ніж досягти деталі. Це схоже на спробу нагріти кімнату за допомогою обігрівача – доводиться чекати, поки повітря нагріється.</p> http://ir-heat-parts.com/uk/posts/sk15-infrared-lamp-for-wafer-oven/ Sun, 28 Jun 2026 06:03:02 +0800 http://ir-heat-parts.com/uk/posts/sk15-infrared-lamp-for-wafer-oven/ <p><img src="http://ir-heat-parts.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png" alt="Інфрачервона лампа SK15 для печі для віферів"></p> <p>На виробничій лінії температурні коливання під час сушіння пластин чи обробки фотолаку є не просто джерелом неефективності – вони також призводять до зниження якості продукції. Навіть незначне підвищення температури на рівні 3°C може порушити критичні параметри пластини. Повільне нагрівання може спричинити залишок розчинників, що, у свою чергу, призводить до появи дефектів. Інфрачервона лампа SK15, призначена для використання в печах для обробки пластин, створена для усунення цих проблем завдяки точному контролю температури.</p> <p>У цьому процесі ключовим є саме контроль. Лампа SK15 працює за допомогою короткочастотних інфрачервоних елементів, які реагують за час, менший за секунду. Це дозволяє точно контролювати температуру. На пластині діаметром 300 мм температура залишається стабільною в межах ±0,1°C. Спектр випромінювання підібраний так, щоб він відповідав характеристикам поглинання фотолаку, що зменшує варіації температури на краях та посередині пластини. Лампа сумісна з помешканнями класу чистоти 1–100 завдяки своїй конструкції, яка запобігає утворенню частинок. Не відбувається випаровування речовин, немає пилу від ниток лампи чи інших відходів від термічних циклів. Ми підкреслюємо важливість повторюваності процесу – адже в літографії жодних поступок не допускається: значення температури залишаються в межах допустимих значень з кожним циклом.</p> http://ir-heat-parts.com/uk/posts/wafer-drying-oven-heating-element/ Sun, 21 Jun 2026 06:37:45 +0800 http://ir-heat-parts.com/uk/posts/wafer-drying-oven-heating-element/ <p><img src="http://ir-heat-parts.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png" alt="Елемент нагріву для печі для сушіння вафер"></p> <p>У процесі літографії піч для сушіння пластини не лише видаляє вологу. Вона також визначає температурний режим для подальших процедур обробки фоточутливого шару. Навіть незначна різница температури на поверхні пластини може призвести до зміни її параметрів, що не буде помітно на жодних датчиках контролю, поки не почнеться зниження якості продукції. Ми розробили елемент нагріву для печі, який запобігає цьому.</p> <p>Основою елемента є кварцово-галогенний інфрачервоний елемент короткохвильового діапазону, поєднаний із мікрорегульованим відбивачем. Цей елемент забезпечує однорідність температури на всій поверхні пластини в межах ±0,1°C, а точність регулювання – ±0,2°C. Елемент може працювати в умовах чистої кімнати класу 1–100 без утворення частинок; матеріали з низьким рівнем випаровування та герметичне виконання елемента запобігають забрудненню. Температура може швидко та контрольовано змінюватися, що дозволяє досягти саме того температурного профілю, який необхідний для обробки фоточутливого шару.</p>