<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>SK15 on IR Heating Lamp Parts</title>
		<link>http://ir-heat-parts.com/vi/tags/sk15/</link>
		<description>Recent content in SK15 on IR Heating Lamp Parts</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>vi</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 28 Jun 2026 06:03:02 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-parts.com/vi/tags/sk15/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Đèn hồng ngoại SK15 dùng cho lò nung wafer</title>
				<link>http://ir-heat-parts.com/vi/posts/sk15-infrared-lamp-for-wafer-oven/</link>
				<pubDate>Sun, 28 Jun 2026 06:03:02 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-parts.com/vi/posts/sk15-infrared-lamp-for-wafer-oven/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-parts.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Đèn hồng ngoại SK15 dùng cho lò nung wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;Trong&lt;/a&gt; quy trình sản xuất, sự biến đổi nhiệt độ trong quá trình làm khô &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;wafer&lt;/a&gt; hoặc xử lý hóa chất dùng để phủ lớp bảo vệ lên wafer không chỉ gây ra sự kém hiệu quả trong quy trình mà còn là nguyên nhân gây ra nhiều sai sót. Sự chênh lệch nhiệt độ 3°C trên bề mặt wafer có thể ảnh hưởng đến các thông số kỹ thuật quan trọng của wafer. Việc tăng nhiệt độ quá chậm có thể khiến dung môi tồn đọng lại, từ đó gây ra các khuyết tật trên wafer. Đèn hồng ngoại SK15 được thiết kế để loại bỏ những vấn đề này bằng cách cung cấp nhiệt độ một cách chính xác, thông qua việc tính toán kỹ lưỡng, chứ không phải dự đoán một cách tùy tiện.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
