無駄な時間を費やすのはやめよう：なぜUHP赤外線が最適なのか
もし依然として半導体製造において熱風を利用しているのであれば、おそらく待つだけで多くの時間を浪費していることでしょう。
熱風の仕組みを考えてみてください。まず空気を加熱し、それを循環させてから、ウェーハが望ましい温度に達するのを待たなければなりません。大量生産の場合、この待ち時間は大きな問題となります。これにより利益が削られ、全体的な作業速度も遅くなります。
目的の場所に直接熱が届く
UHPランプはこの状況を変えます。部屋全体を温める代わりに、短波放射を利用してエネルギーを直接基板に送り込みます。つまり、瞬時に熱が伝わります。空気の流れを待つ必要もなく、熱の遅延もありません。非常に迅速で直接的な加熱です。
最良の点は、巨大な送風機や複雑な配管が不要になることです。設備のスペースも節約され、処理時間も短縮されます。まさに一石二鳥です。
清潔さの維持
UHP環境では、ほんのわずかなほこりやガス分子でも、一括りのウェーハを台無しにしてしまいます。そのため、私たちは素材には細心の注意を払います。高品質の合成石英や、発泡や粒子の飛散が起こらない特殊なフィラメントを使用します。そうすれば、常に清潔を保つことができます。
ただし、電源の安定性にも注意が必要です。電圧が不安定だと、ウェーハに熱が偏ってしまいます。毎回、均一に熱が分布するようにしなければなりません。
欠点（何事にも欠点はある）
これが「プラグアンドプレイ」の解決策だとは言えません。実際にはそうではありません。
IRによる熱密度は非常に強力です。もし冷却システムを考慮せずにランプを交換してしまうと、大変なことになります。筐体が変形したり、センサーが壊れたりする可能性があります。
移行する前に、まず熱分布をしっかり確認してください。配線や冷却システムを整えれば、処理速度はすぐに向上します。ただし、加熱がボトルネックでなくなったら、新たな問題が出てくる可能性があります。それが現実です。