
In der Lithografie dient das Wafer-Trocknungsöfen nicht nur dazu, Feuchtigkeit zu entfernen. Er bestimmt vielmehr den thermischen Rahmen für alle anschließenden Verarbeitungsschritte mit dem Fotolack. Eine Temperaturdifferenz von 2°C auf der Oberfläche des Wafer kann zu Abweichungen in der Breite der Linien führen – solche Abweichungen werden erst dann sichtbar, wenn es zu Fehlern bei der Messung kommt. Wir haben den Heizelemente unseres Wafer-Trocknungsöfens so konstruiert, dass dies verhindert wird.
Das Herzstück des Systems ist ein Quarz-Halogen-Infrarot-Heizelement, das zusammen mit einem Mikrozonenreflektorarray verwendet wird. Dadurch bleibt die Homogenität der Temperatur auf dem Wafer bei ±0,1°C innerhalb der gesamten Charge – die Genauigkeit der Einstellung beträgt ±0,2°C. Das Heizelement funktioniert auch in Reinräumen der Klasse 1–100 ohne das Eindringen von Partikeln. Dank niedrigem Ausgasungsniveau sowie einer versiegelten Anschlussleitung wird eine Kontamination vermieden. Die Temperaturanpassungen sind schnell und steuerbar – dadurch kann genau das gewünschte thermische Profil erreicht werden, ohne Überschreitungen.
In der Praxis bedeutet das eine stabile Kontrolle der kritischen Abmessungen sowie weniger Aufwendigkeiten zur Nachbearbeitung. Das Heizelement arbeitet 24/7, wobei die Wartung einfach durchführbar ist. Die präzise Temperaturregelung reduziert außerdem den Energieverbrauch pro Zyklus. So erhalten Sie stets konstante Ergebnisse beim Trocknen und Erhitzen des Wafer, unabhängig von der Plattform des Ofens.
Die Installation ist einfach – doch man sollte den thermischen Zusammenhang als Prozessvariable betrachten. Das Luftstrommuster des Ofens sowie die Toleranzen bei der Montage des Heizelements bestimmen die tatsächliche Homogenität der Temperatur. Deshalb sollte nach dem Austausch die Kalibrierung des Ofens überprüft werden. Das Heizelement sollte als Teil des thermischen Systems betrachtet werden – nicht als eigenständiges Element. So funktioniert der Ofen immer nach den vorgegebenen Vorgaben.