半導体スパッタリングヒーター

製造現場において、目標温度というのは単なる目安ではなく、必ず守らなければならない基準です。予熱段階で0.5℃でも温度が変動すると、成膜速度に影響を与えます。また、スパッタリングチャンバーが冷えてしまうと、真空状態が確立されるまでの時間が長くなり、生産効率が低下します。私たちは、このような半導体用ス...