왜 클린룸에서는 뜨거운 공기 대신 적외선을 사용하는가? 반도체 가공 과정에서 가장 중요한 것은 바로 시간입니다. 만약 여전히 강제로 공기를 이용해 부품을 가열하거나 건조시킨다면, 오븐이 부품 처리 속도를 따라잡지 못해 답답함을 느꼈을 것입니다. 그래서 많은 사람들이...

웨이퍼 건조나 포토레지스트 소성 과정에서 발생하는 온도 변동은 단순한 비효율성에 그치지 않고, 결국 제품의 품질을 저하시키는 원인이 됩니다. 웨이퍼 전체에 3°C 정도의 온도 차이가 생기면, 웨이퍼의 치수가 정확하지 않아집니다. 또한, 온도 상승 속도가 너무 느리면...

리소그래피에서 웨이퍼 건조 오븐은 단순히 수분을 제거하는 역할만 하는 것이 아닙니다. 이 장비는 향후 이루어지는 모든 포토레지스트 처리 과정에 있어서 필요한 열 조건을 결정하는 중요한 요소입니다. 척 위의 특정 부위에서 2°C 정도의 온도 차이가 생기면, 선폭에 변화...